[發明專利]一種方位可測量的內定向定方位定射角射孔裝置

有效

• 申請號: 201510349930.2
• 申請日: 2015-06-23
• 公開（公告）號: CN104989335B
• 公開（公告）日: 2018-03-23
• 發明（設計）人: 黎濤;周曌;蔡山;魏曉龍;張偉民;崔淑娟;劉西京;胡衛陽
• 申請（專利權）人: 西安物華巨能爆破器材有限責任公司
• 主分類號: E21B43/116
• 分類號: E21B43/116;E21B43/119
• 代理公司: 西北工業大學專利中心61204
• 代理人: 王鮮凱

1.一種方位可測量的內定向定方位定射角射孔裝置，包括槍體(1)、一體式定射角彈架(2)、定位盤(3)、軸承組件(4)、配重塊(5)、中間接頭(6)和槍體(1)兩端的扶正管；其特征在于：所述槍體(1)兩端的扶正管為相互插接的上扶正管(7)和下扶正管(8)，上扶正管(7)的端部設有一個舌鍵(12)，所述下扶正管(8)的端部設有一鍵槽(11)；當兩支槍連接時，上支槍的上扶正管(7)插入下支槍的下扶正管(8)端口時，上扶正管(7)上的舌鍵(12)位于下扶正管(8)的鍵槽(11)內，上扶正管(7)與下扶正管(8)形成相互吻合的耦合結構。

2.根據權利要求1所述方位可測量的內定向定方位定射角射孔裝置，其特征在于：所述下扶正管(8)的端口為一斜面結構，鍵槽(11)位于斜面底部，當兩支槍連接時，上支槍的上扶正管(7)的插入下支槍的下扶正管(8)端口時，上扶正管(7)上的舌鍵(12)順著斜面結構卡入下扶正管(8)的鍵槽(11)內，上扶正管(7)與下扶正管(8)形成相互吻合的耦合結構。