[發(fā)明專利]一種對去甲二氫愈創(chuàng)木酸有選擇性吸附的表面印跡材料及制備方法

有效

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• 申請日: 2015-06-23
• 公開（公告）號: CN104910385B
• 公開（公告）日: 2017-06-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 譚倪;廖森;侯丹;楊雪純;張穩(wěn);賈曉鶴
• 申請（專利權(quán)）人: 南華大學(xué)
• 主分類號: C08G77/26
• 分類號: C08G77/26;C08K3/36;C08J9/26;B01J20/26;B01J20/30
• 代理公司: 湖南省國防科技工業(yè)局專利中心43102
• 代理人: 馮青

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及表面分子印跡技術(shù)領(lǐng)域，是一種在合適的溶劑中，將模板分子與功能單體通過非共價鍵作用形成復(fù)合物，然后加入載體及交聯(lián)劑，在引發(fā)劑的作用下，載體表面形成特定的印跡位點，去除模板分子后即可于載體表面得到與模板分子大小、形狀、官能團完全互補的且具有三維孔穴的表面印跡材料，這種材料可應(yīng)用于相關(guān)模板分子的提取與分離，且清洗簡易、應(yīng)用性能較好。

背景技術(shù)

天然產(chǎn)物的有效成分往往具有結(jié)構(gòu)復(fù)雜、成分多樣、含量低微以及性狀不穩(wěn)定等諸多特點，所以從天然藥物中分離得到純凈的有效活性成分比十分困難。目前傳統(tǒng)的過濾、離心等分離方法只能得到粗提物，難以得到單一的純組分，而色譜法、超濾法、吸附法等現(xiàn)代分離技術(shù)則普遍存在對被分析對象專一選擇性低、親和力差等缺點，況且上述常規(guī)分離法所用溶劑耗量大，效率低，且容易造成微量有效成分丟失。目前，表面分子印跡技術(shù)基本能克服上述方法的不足，它具有分子識別性強、固定相制備簡便快速、操作簡單、性質(zhì)比較穩(wěn)定( 耐酸堿，耐高溫、高壓等)、清洗簡易、溶劑消耗量少、模板分子和印跡材料均可回收再利用等優(yōu)點，因此表面分子印跡技術(shù)便在中草藥有效成分的提取分離領(lǐng)域具有廣闊的應(yīng)用前景。

去甲二氫愈創(chuàng)木酸（nordihydroguaiaretic acid；NDGA）最初是從蒺藜科灌木中提取的一種木脂素類天然產(chǎn)物，目前人們可以進行人工合成。去甲二氫愈創(chuàng)木酸是一種脂氧化酶抑制劑，具有抗氧化、抗腫瘤、抗病毒作用。近年來，人們發(fā)現(xiàn)它對前列腺癌、乳腺癌、肺癌、結(jié)腸癌等多種實體瘤細(xì)胞的生長亦具有抑制作用，并有預(yù)防腫瘤形成的作用，且對腫瘤轉(zhuǎn)移和體內(nèi)移植瘤的生長也有顯著的抑制作用，但其具體作用機制不詳。最新研究表明NDGA還能抑制登革熱病毒的復(fù)制。針對NDGA提取與分離，目前國內(nèi)外主要為有機溶劑萃提、超聲提取、高效液相色譜分離等報道，這些技術(shù)雖然在一定程度上提高了去甲二氫愈創(chuàng)木酸的提取效率，但是其選擇性較差、產(chǎn)量較低、實用性不強。

為此，本項目利用表面分子印跡技術(shù)的專一識別性、高親和性和高選擇性等特點，將表面分子印跡技術(shù)應(yīng)用于活性物質(zhì)去甲二氫愈創(chuàng)木酸的提取與分離，且所得表面印跡材料易于清洗、應(yīng)用性能好。

發(fā)明內(nèi)容

針對上述情況，本發(fā)明的目的是提供一種新型對去甲二氫愈創(chuàng)木酸具有選擇性吸附且清洗簡易、應(yīng)用性能好的表面印跡材料及制備方法。

本發(fā)明的技術(shù)方案是：一種對去甲二氫愈創(chuàng)木酸具有選擇性吸附且清洗簡易、應(yīng)用性能好的表面印跡材料，其特征為：

（1）制備印跡材料所需各組分的質(zhì)量百分比為：去甲二氫愈創(chuàng)木酸0.144-0.222%；γ-氨基丙基三乙氧基硅烷0.531-1.048%；甲基三乙氧基硅烷0.171-0.264%；正硅酸四乙酯8.232-16.905%；二氧化硅0.986-4.057%；0.01mol L^-1乙酸溶液9.589-14.803%；致孔劑乙醇64.022-77.945%；

（2）最佳優(yōu)化配比條件下（即制備印跡材料所需各組分的質(zhì)量百分比為：去甲二氫愈創(chuàng)木酸0.151%、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷0.669%、甲基三乙氧基硅烷0.180%、正硅酸四乙酯8.398%、二氧化硅1.008%、0.01mol/L乙酸溶液10.078%及乙醇79.516%時）所得表面印跡材料的傅里葉紅外光譜圖見圖1；

（3）同（2）條件所得表面印跡材料的掃描電子顯微鏡圖見圖2；

上述的的一種對去甲二氫愈創(chuàng)木酸具有選擇性吸附且清洗簡易、應(yīng)用性能好的表面印跡材料，其制備方法如下：

A、在反應(yīng)釜中按質(zhì)量百分比加入0.144-0.222%去甲二氫愈創(chuàng)木酸、0.531-1.048%γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、0.171-0.264%甲基三乙氧基硅烷及64.022-79.516%致孔劑乙醇，室溫攪拌1小時,使其充分預(yù)反應(yīng)；

B、預(yù)反應(yīng)后，分別加入質(zhì)量百分比為0.986-4.057%二氧化硅、8.232-16.905%正硅酸四乙酯，室溫攪拌1小時后再加入9.589-14.803%濃度為0.01 mol L^-1乙酸溶液,室溫攪拌使反應(yīng)進行24小時，得到表面印跡聚合物；

C、取0.2 g干燥好的上述表面印跡聚合物于50 mL索氏提取器中，以體積比為7:3的乙醇及乙酸的混合溶液洗脫8小時至洗脫液中檢測不到去甲二氫愈創(chuàng)木酸為止，然后用乙醇洗去材料內(nèi)殘留的乙酸，洗脫好的印跡聚合物于60 ℃真空干燥24小時后出料。