[發(fā)明專利]蝕刻液組合物及使用其制造液晶顯示器用陣列基板的方法

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510342127.6
• 申請(qǐng)日: 2015-06-18
• 公開（公告）號(hào): CN105220148B
• 公開（公告）日: 2018-08-28
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 崔漢永;金炫佑;李俊雨;田玹守;趙成培
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 東友精細(xì)化工有限公司
• 主分類號(hào): C23F1/18
• 分類號(hào): C23F1/18;C23F1/26;H01L21/77
• 代理公司: 北京派特恩知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11270
• 代理人: 徐川;姚開麗

本文所公開的是一種蝕刻液組合物，包含：金屬層氧化劑、氟化合物、含氮原子的化合物、膦酸、二醇和水；以及一種使用該組合物制造液晶顯示器用陣列基板的方法。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及金屬層用蝕刻液組合物及使用其制造液晶顯示器用陣列基板的方法。

背景技術(shù)

隨著諸如LCD、PDP和OLED特別是TFT-LCD的平板顯示器用屏幕變大，已經(jīng)廣泛重新考慮采用銅或銅合金組成的單層，或者采用銅或銅合金/其它金屬、其它金屬的合金或者金屬氧化物的大于兩層的多層，以便降低布線電阻并提高與介電硅層的粘附性。例如，銅/鉬層、銅/鈦層或銅/鉬-鈦層可以形成為TFT-LCD的柵線和構(gòu)成數(shù)據(jù)線的源/漏線，并且可能有助于擴(kuò)大顯示器用屏幕。因此，需要開發(fā)具有優(yōu)異蝕刻特性的組合物用于蝕刻包含銅基層的這些金屬層。

作為上面提到的蝕刻組合物，通常使用過氧化氫和氨基酸類蝕刻液、過氧化氫和磷酸類蝕刻液、過氧化氫和聚乙二醇類蝕刻液等。

作為一個(gè)例子，韓國專利申請(qǐng)公布號(hào)10-2011-0031796公開了一種包含水溶性化合物的蝕刻液，具有：A)過氧化物(H₂O₂)、B)過硫酸鹽、C)具有氨基和羧基的可溶性化合物和水。

韓國專利申請(qǐng)公布號(hào)10-2012-0044630公開了一種用于包含銅的金屬層的蝕刻液，包含：過氧化氫、磷酸、環(huán)狀胺化合物、硫酸鹽、氟硼酸和水。

韓國專利申請(qǐng)公布號(hào)10-2012-0081764公開了一種蝕刻液，包含：A)氫氧化銨、B)過氧化氫、C)氟化合物、D)多元醇和E)水。

然而，在包含銅基層的金屬層的CD損失、斜度(錐度)、圖案直線度、金屬殘留物、貯存穩(wěn)定性和待處理的片材數(shù)等方面中，上面提到的蝕刻液不能充分滿足相關(guān)領(lǐng)域中所要求的條件。

專利文獻(xiàn)

專利文獻(xiàn)1：韓國專利申請(qǐng)公布號(hào)10-2011-0031796

專利文獻(xiàn)2：韓國專利申請(qǐng)公布號(hào)10-2012-0044630

專利文獻(xiàn)3：韓國專利申請(qǐng)公布號(hào)10-2012-0081764

發(fā)明內(nèi)容

因此，本發(fā)明已被設(shè)計(jì)以解決上述問題，并且本發(fā)明的一個(gè)目的是提供一種蝕刻液組合物，該蝕刻液組合物具有優(yōu)異的工作安全性、貯存穩(wěn)定性，特別是優(yōu)異的蝕刻速率和對(duì)大量片材的優(yōu)異處理能力；以及一種使用該組合物制造液晶顯示器用陣列基板的方法。

為了達(dá)到上述目的，本發(fā)明的一個(gè)方面提供了一種蝕刻液組合物，包含：(A)金屬層氧化劑；(B)氟化合物；(C)含氮原子的化合物；(D)膦酸；(E)二醇；和(F)水。

本發(fā)明的另一個(gè)方面提供了一種制造液晶顯示器用陣列基板的方法，包括：

a)在基板上形成柵極的步驟；

b)在包含柵極的基板上形成柵絕緣體的步驟；

c)在柵絕緣體上形成半導(dǎo)體層的步驟；

d)在半導(dǎo)體層上形成源/漏極的步驟；和

e)形成與源/漏極連接的像素電極的步驟；

其中，步驟a)、d)或e)包括形成金屬層并且用根據(jù)本發(fā)明所述的蝕刻液組合物蝕刻金屬層來形成電極的步驟。

本發(fā)明的金屬層用蝕刻液組合物含有低含量的過氧化氫，并因此它具有優(yōu)異的工作安全性、價(jià)格競(jìng)爭(zhēng)力和能夠經(jīng)濟(jì)地處置該蝕刻液的效果。

本發(fā)明的金屬層用蝕刻液組合物提供了處理大量基板的能力和特別優(yōu)異的貯存穩(wěn)定性。