[發明專利]投射裝置和投射控制裝置

有效

• 申請號: 201510341279.4
• 申請日: 2012-04-19
• 公開（公告）號: CN104898364B
• 公開（公告）日: 2018-01-19
• 發明（設計）人: 倉重牧夫;谷口幸夫;大八木康之
• 申請（專利權）人: 大日本印刷株式會社
• 主分類號: G03B21/20
• 分類號: G03B21/20;G03B21/14
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司72001
• 代理人: 李嘯,姜甜

1.一種投射裝置，其特征在于，具備：

光學元件，能夠使相干光漫射；

照射裝置，以相干光在所述光學元件上連續地掃射的方式，使所述相干光的反射角度隨時間的經過而發生變化來照射所述光學元件；

光調制器，由從所述照射裝置入射至所述光學元件的各位置而被漫射的相干光來照明；

投射光學系統，將由所述光調制器生成的調制圖像投射至漫射面；以及

中間光學系統，配置于所述光學元件與所述光調制器之間，抑制由所述光學元件漫射的相干光的漫射角度，

從所述光學元件漫射的相干光，在由所述中間光學系統抑制漫射角度之后，不依賴于所述光學元件上的擴散位置地反復對所述光調制器進行照明。

2.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，以所述光學元件與所述中間光學系統的距離和所述中間光學系統的焦點距離一致的方式，定位所述中間光學系統。

3.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，所述光調制器與所述中間光學系統的距離和所述中間光學系統的焦點距離一致的方式，定位所述中間光學系統。

4.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，所述投射光學系統的所述光調制器側為遠心。

5.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，所述光學元件為全息圖記錄介質。

6.如權利要求5所述的投射裝置，其特征在于，以由所述全息圖記錄介質漫射并由所述中間光學系統抑制漫射角度的相干光的主光線的方向和所述光調制器的光軸大致平行的方式，形成所述全息圖記錄介質的干涉條紋。

7.如權利要求5所述的投射裝置，其特征在于，所述全息圖記錄介質為三維全息圖。

8.如權利要求5所述的投射裝置，其特征在于，所述全息圖記錄介質為計算機合成全息圖。

9.如權利要求5所述的投射裝置，其特征在于，所述全息圖記錄介質為表面浮雕型的全息圖漫射器。

10.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，所述光學元件為具有多個透鏡的微透鏡陣列。

11.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，所述光調制器為空間光調制器。

12.如權利要求11所述的投射裝置，其特征在于，所述空間光調制器使來自所述照射裝置的相干光透射或反射而生成調制圖像。

13.如權利要求11所述的投射裝置，其特征在于，所述空間光調制器為微鏡器件、或反射型或透射型LCOS、或透射型的液晶面板。

14.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，所述照射裝置具有：

光源，輻射相干光；以及

掃射器件，通過使從所述光源輻射的所述相干光的行進方向變化，而使該相干光在所述光學元件上掃射。

15.如權利要求1所述的投射裝置，其特征在于，具備中繼光學系統，該中繼光學系統配置于所述中間光學系統與所述光調制器之間，將由利用所述中間光學系統來抑制漫射角度的相干光形成的中間像映射于所述光調制器。

16.如權利要求15所述的投射裝置，其特征在于，具備配置于所述中間光學系統與所述中繼光學系統之間的積分棒。

17.一種投射控制裝置，其特征在于，具備：

光學元件，能夠使相干光漫射；

掃射器件，使所述相干光的反射角度隨時間的經過而發生變化，使該相干光在所述光學元件上連續地掃射；以及

中間光學系統，抑制由所述光學元件漫射的相干光的漫射角度，

從所述光學元件漫射的相干光，在由所述中間光學系統抑制漫射角度之后，不依賴于所述光學元件上的擴散位置地反復對被照明區域進行照明。