[發明專利]去像素化輪廓線重建的線性陰影圖方法

有效

• 申請號: 201510323626.0
• 申請日: 2015-06-12
• 公開（公告）號: CN104933754B
• 公開（公告）日: 2017-09-19
• 發明（設計）人: 馮結青;杜文俊;梅井翔
• 申請（專利權）人: 浙江大學
• 主分類號: G06T15/60
• 分類號: G06T15/60
• 代理公司: 杭州天勤知識產權代理有限公司33224
• 代理人: 胡紅娟

1.一種去像素化輪廓線重建的線性陰影圖方法，其特征在于，包括：

(1)從光源空間繪制場景，存儲所有像素中心的深度值為第一陰影圖，在x和y方向各偏移半個紋素大小得到第二陰影圖，第一陰影圖和第二陰影圖構成線性陰影圖；

(2)從視域空間繪制場景，將像素變換到光源空間，并把像素分類為輪廓線像素和非輪廓線像素；

(3)對于非輪廓線像素使用線性插值計算遮擋物深度值，比較深度值得到陰影結果，對于輪廓線像素，使用基于深度值的去像素化方法重建陰影的輪廓線。

2.根據權利要求1所述的去像素化輪廓線重建的線性陰影圖方法，其特征在于，步驟(1)中的線性陰影圖的采樣位置為每個紋素的中心和角點。

3.根據權利要求1所述的去像素化輪廓線重建的線性陰影圖方法，其特征在于，步驟(2)中的像素分類方法如下：

把目標像素投影到光源空間，并找到目標像素所在的紋素，通過線性陰影圖獲取該紋素中心和四個角上深度采樣點；

求取四個角上的深度采樣點的值的平均值，判斷得到的結果是否與像素中心存儲的深度值相等，如果兩者相等，該目標像素為輪廓線像素；

否則，該目標像素為非輪廓線像素。

4.根據權利要求1所述的去像素化輪廓線重建的線性陰影圖方法，其特征在于，步驟(3)中的線性插值計算深度值時，對于像素P，通過像素P的紋理坐標確定像素P所在三角形區域，結合所述三角形區域的三個頂點V₀、V₁和V₂的紋理坐標，計算像素P相對于所述三角形區域的重心坐標(u,v,ω)：

P.xP.y1=V0.xV1.xV2.xV0.yV1.yV2.y111uvω,]]>

再計算像素P的遮擋物的深度值：

P_occ.z＝u·V₀.z+v·V₁.z+ω·V₂.z，

公式中：

P_occ表示像素P的遮擋物，

z表示深度值，

(P.x,P.y)表示為像素P在光源空間的二維投影坐標，

V₀、V₁和V₂為所屬的三角形的三個頂點，

V₀.x,V₀.y,V₁.x,V₁.y,V₂.x,V₂.y分別表示V₀、V₁和V₂的二維紋理坐標，

V₀.z，V₁.z，V₂.z分別表示V₀、V₁和V₂的深度值。

5.根據權利要求1所述的去像素化輪廓線重建的線性陰影圖方法，其特征在于，步驟(3)中去像素化輪廓線重建方法包括依次進行的子像素形狀重塑和B樣條輪廓線擬合兩個步驟。