[發明專利]一種二硫化錫納米片負載二氧化錫納米晶復合納米材料的制備方法有效
| 申請號： | 201510318239.8 | 申請日： | 2015-06-11 |
| 公開（公告）號： | CN104998660B | 公開（公告）日： | 2017-03-15 |
| 發明（設計）人： | 馬琳;許麗梅;周曉平;徐旭耀;張玲玲 | 申請（專利權）人： | 嶺南師范學院 |
| 主分類號： | B01J27/04 | 分類號： | B01J27/04 |
| 代理公司： | 廣州粵高專利商標代理有限公司44102 | 代理人： | 張月光,林偉斌 |
| 地址： | 524048 廣*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 硫化 納米 負載 氧化 復合 材料 制備 方法 | ||
1.一種二硫化錫納米片負載二氧化錫納米晶復合納米材料的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
S1.?二硫化錫納米片的制備：將L-半胱氨酸和四氯化錫溶于水中，混勻，水熱反應后得到淺黃色沉淀，漂洗，離心分離，干燥得到產品SnS2納米片；
S2.?復合材料的制備：將四氯化錫和維生素C溶于水中，將S1制備得到的SnS2納米片分散在上述溶液中，再加入NaHCO3，混勻，在回流條件下微波反應，冷卻，漂洗，離心分離，干燥即得復合納米材料SnO2/SnS2；
其中，S1中加入L-半胱氨酸和四氯化錫的摩爾比為6~8:1，S2中加入的四氯化錫與SnS2納米片的摩爾比為1~5:1。
2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，S1、S2所述四氯化錫溶于水后錫離子的濃度為0.01~0.05mol/L。
3.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，S1所述水熱反應的條件為180℃水熱反應10h。
4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，S1中加入L-半胱氨酸和四氯化錫的摩爾比為6:1。
5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，S2所述混合液中NaHCO3和四氯化錫的摩爾比為4:1。
6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，S2所述混合液中維生素C和四氯化錫的摩爾比為1:1。
7.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，S2所述微波反應的條件為140~160℃加熱反應15~30min。
8.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，S1、S2所述漂洗為用水和無水乙醇分別漂洗三次。
9.根據權利要求1~8任一項所述的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：
S1.?二硫化錫納米片的制備：將L-半胱氨酸和四氯化錫按摩爾比6:1溶于水中，混勻形成澄清溶液，錫離子的濃度為0.01~0.05mol/L，將上述溶液在180℃水熱反應10h，自然冷卻，得到淺黃色沉淀，漂洗，離心分離，真空干燥得到產品二硫化錫納米片；
S2.?復合材料的制備：按摩爾比為1:1將四氯化錫和維生素C溶于水中，錫離子的濃度為0.01~0.05mol/L，將S1制備得到的SnS2納米片分散在上述溶液中，再加入NaHCO3，NaHCO3和四氯化錫的摩爾比為4:1，混勻，在回流條件下140~160℃微波反應15~30min，自然冷卻，漂洗，離心分離，真空干燥即得復合納米材料SnO2/SnS2；
其中，S2中加入的四氯化錫與SnS2納米片的摩爾比為1~5:1。
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