[發明專利]一種集成電路芯片上料裝置在審
| 申請號: | 201510315024.0 | 申請日: | 2015-06-10 |
| 公開(公告)號: | CN104952755A | 公開(公告)日: | 2015-09-30 |
| 發明(設計)人: | 劉振華;殷國海 | 申請(專利權)人: | 江蘇杰進微電子科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/66 | 分類號: | H01L21/66 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 213022 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 集成電路 芯片 裝置 | ||
技術領域
本發明涉及半導體測試領域,特別地涉及一種集成電路芯片上料裝置。
背景技術
半導體器件成批生產是,為便于半導體器件的計數、轉道和保管常將封裝、打標或檢測后的半導體器件存放在專用的料管中;由于半導體器件數量較多,把半導體器件放入料管的工作量很大;采用人工方式把半導體器件放入料管效率低且不利于組成半導體器件流水化生產線;因此,設計一種集成電路芯片上料裝置,成為亟待解決的問題。
發明內容
本發明目的是:克服傳統的集成電路芯片上料裝置單一的缺陷,提供一種能夠供兩只半導體器件共用陽極的上料裝置。
本發明目的通過以下技術方案實現:
本發明提供的一種集成電路芯片上料裝置,由多個上料單元并聯而成,每個上料單元由上料臺、第一引腳、第二引腳、第三引腳組成,三個引腳之間以及多個上料單元之間連接有引腳筋,一起構成集成電路芯片上料裝置。上料臺分為左上料臺和右上料臺兩片,分別能夠上料一只半導體器件;左上料臺與第一引腳電氣連接,右上料臺與第三引腳電氣聯接,第一引腳、第三引腳分別能夠用作各自上料的半導體器件的陰極,第二引腳能夠用作兩只半導體器件的公用陽極。
本發明供半導體器件上料以及供后續的半導體器件封裝工藝過程使用,在上料半導體器件封裝后,沖剪掉引腳筋,可以成為一個個獨立的封裝上料單元成品。
所述的半導體器件是指二極管芯片、三極管芯片、集成塊等半導體芯片。
所述的上料臺所在的平面可以低于引腳和引腳筋所在的平面1mm-5mm。
所述的左上料臺和右上料臺兩片之間可以有0.5mm-2mm寬的上料臺間隙。
所述的上料臺、引腳、或兩者可以鍍有一層金或銀,以增強半導體器件的鍵合絲與引腳之間的導電能力。
有益效果:本發明能夠實現兩只半導體器件共用陽極,這與傳統的共用陰極的上料方式不同,滿足不同的半導體器件的特殊上料要求。另外,兩只半導體器件封裝件的主體部分分離,互相干擾少,一只損壞時可以單獨更換,降低使用中的維修成本。
附圖說明
圖1是本發明的正視結構示意圖。
圖2是本發明的圖1的左視結構示意圖。
圖中:1、上料單元;2、左上料臺;3、上料臺間隙;4、右上料臺;5、第一引腳;6、第二引腳;7、第三引腳;8、引腳筋。
具體實施方式
下面結合附圖對本發明做更具體的描述。
如附圖1、2中所示,上料單元1由左上料臺2、右上料臺4、第一引腳5、第二引腳6、第三引腳7組成,三個引腳之間連接有引腳筋8。左上料臺2與第一引腳5電氣連接,右上料臺4與第三引腳7電氣聯接;兩片上料臺能夠分別上料一只二極管芯片,第一引腳5、第三引腳7分別能夠用作各自上料的二極管芯片的陰極,第二引腳6能夠用作兩只二極管芯片的公用陽極。
所述的左上料臺2和右上料臺4兩片之間有1mm寬的上料臺間隙3,所述的兩片上料臺所在的平面低于引腳5、6、7和引腳筋8所在的平面2mm。
由多個上料單元1并聯而成,多個上料單元1之間連接有引腳筋8的本發明,在上料二極管芯片后,可以供后續的二極管芯片封裝工藝過程使用,再在二極管芯片封裝后,沖剪掉引腳筋8,可以成為一個個獨立的封裝二極管成品。
本發明可改變為多種方式對本領域的技術人員是顯而易見的,這樣的改變不認為脫離本發明的范圍。所有這樣的對所述領域的技術人員顯而易見的修改,將包括在本權利要求的范圍之內。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于江蘇杰進微電子科技有限公司,未經江蘇杰進微電子科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510315024.0/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:冷卻腔室及半導體加工設備
- 下一篇:一種焊盤缺陷的檢測方法
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導體或固體器件或其部件的方法或設備
H01L21-02 .半導體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





