[發(fā)明專利]偏振變換元件和投影機在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510303639.1 | 申請日: | 2015-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN105278020A | 公開(公告)日: | 2016-01-27 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 遠藤隆史;巖本將樹 | 申請(專利權(quán))人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | G02B5/30 | 分類號: | G02B5/30;G03B21/20 |
| 代理公司: | 北京市中咨律師事務(wù)所 11247 | 代理人: | 萬利軍;段承恩 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 偏振 變換 元件 投影機 | ||
1.一種偏振變換元件,其特征在于,具備:
第一光學(xué)塊,其包括:第一偏振分離膜、第一反射膜、第一面和第一光入射面;和
第二光學(xué)塊,其包括:第二偏振分離膜、第二反射膜、第二面和第二光入射面,
所述第一光學(xué)塊和所述第二光學(xué)塊,以所述第一面與所述第二面相對的方式接合,
所述第一偏振分離膜,介由所述第一面和所述第二面,與所述第二偏振分離膜相對配置,
所述第一偏振分離膜,在所述第一面的從所述第一光入射面離開的位置終止。
2.如權(quán)利要求1所述的偏振變換元件,其特征在于,
所述第二偏振分離膜,在所述第二面的從所述第二光入射面離開的位置終止。
3.如權(quán)利要求2所述的偏振變換元件,其特征在于,
所述第一偏振分離膜和所述第二偏振分離膜連接。
4.如權(quán)利要求1或2所述的偏振變換元件,其特征在于,
在所述第一面與所述第二面之間設(shè)置有反射元件。
5.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的偏振變換元件,其特征在于,
所述第一光學(xué)塊包括第三偏振分離膜和第三反射膜,
所述第一反射膜在所述第一光入射面終止,
所述第三偏振分離膜和所述第三反射膜,在所述第一光入射面終止,
所述第一光入射面的所述第一反射膜終止的位置與所述第一面的距離,小于所述第一光入射面的所述第三偏振分離膜終止的位置與所述第一光入射面的所述第三反射膜終止的位置的距離。
6.如權(quán)利要求5所述的偏振變換元件,其特征在于,
所述第二光學(xué)塊包括第四偏振分離膜和第四反射膜,
所述第二反射膜在所述第二光入射面終止,
所述第四偏振分離膜和所述第四反射膜,在所述第二光入射面終止,
所述第二光入射面的所述第二反射膜終止的位置與所述第二面的距離,小于所述第二光入射面的所述第四偏振分離膜終止的位置與所述第二光入射面的所述第四反射膜終止的位置的距離。
7.如權(quán)利要求1至4中任一項所述的偏振變換元件,其特征在于,
所述第一光學(xué)塊包括第三偏振分離膜和第三反射膜,
所述第一偏振分離膜與所述第一反射膜平行配置,
所述第三偏振分離膜與所述第三反射膜平行配置,
所述第一偏振分離膜與所述第一反射膜的間隔,大于所述第三偏振分離膜與所述第三反射膜的間隔。
8.如權(quán)利要求7所述的偏振變換元件,其特征在于,
所述第二光學(xué)塊包括第四偏振分離膜和第四反射膜,
所述第二偏振分離膜與所述第二反射膜平行配置,
所述第四偏振分離膜與所述第四反射膜平行配置,
所述第二偏振分離膜與所述第二反射膜的間隔,大于所述第四偏振分離膜與所述第四反射膜的間隔。
9.一種投影機,其特征在于,具備:
權(quán)利要求1至8中任一項所述的偏振變換元件;
光源;
將從所述光源出射的光向所述偏振變換元件導(dǎo)光的透鏡;
調(diào)制從所述偏振變換元件出射的光的光調(diào)制元件;和
對通過所述光調(diào)制元件調(diào)制后的光進行投影的投影光學(xué)系統(tǒng)。
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