[發明專利]離子銑削裝置有效
| 申請號: | 201510292799.0 | 申請日: | 2011-11-02 |
| 公開(公告)號: | CN105047511A | 公開(公告)日: | 2015-11-11 |
| 發明(設計)人: | 巖谷徹;武藤宏史;高須久幸;上野敦史;金子朝子 | 申請(專利權)人: | 株式會社日立高新技術 |
| 主分類號: | H01J37/20 | 分類號: | H01J37/20;H01J37/30 |
| 代理公司: | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人: | 洪秀川 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 離子 銑削 裝置 | ||
1.一種離子銑削裝置,其具備:
離子源,其安裝在真空腔內,向試料照射離子束;以及
傾斜工作臺,其具有相對于該離子源放出的離子束的照射方向垂直的方向的傾斜軸,
其特征在于,
所述離子銑削裝置具備:
旋轉體,其設置在所述試料工作臺上,且具有與所述傾斜軸正交的旋轉傾斜軸;以及
加工觀察用開口,其設置在所述真空腔的壁面上,且設置在與由所述傾斜軸和所述離子束的照射軌道所成的平面正交的方向上。
2.如權利要求1所述的離子銑削裝置,其特征在于,
所述離子銑削裝置具備使所述試料位置在所述試料工作臺上偏心的偏心機構。
3.如權利要求1所述的離子銑削裝置,其特征在于,
所述離子銑削裝置在所述旋轉體上具備試料掩膜單元,該試料掩膜單元具有遮蔽部,該遮蔽部具有與所述旋轉傾斜軸平行的離子束遮蔽面。
4.如權利要求1所述的離子銑削裝置,其特征在于,
根據所述離子束源與所述試料的距離,切換剖面銑削與平面銑削的模式。
5.如權利要求1所述的離子銑削裝置,其特征在于,
在所述加工觀察用開口的上部配置光學顯微鏡。
6.如權利要求1所述的離子銑削裝置,其特征在于,
在所述加工觀察用開口部配置電子顯微鏡的鏡筒。
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