[發(fā)明專利]基于引線框架的MEMS傳感器結(jié)構(gòu)

有效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201510276881.4
• 申請(qǐng)日: 2015-05-27
• 公開（公告）號(hào): CN105280561B
• 公開（公告）日: 2019-06-07
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: C.加雷馬尼;D.科爾;U.辛德勒;H.托伊斯
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 英飛凌科技股份有限公司
• 主分類號(hào): H01L23/043
• 分類號(hào): H01L23/043;B81B7/02
• 代理公司: 中國(guó)專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 申屠偉進(jìn);胡莉莉

本發(fā)明涉及基于引線框架的MEMS傳感器結(jié)構(gòu)。公開一種傳感器結(jié)構(gòu)。該傳感器結(jié)構(gòu)可以包含：用于支撐MEMS傳感器的引線框架；在引線框架的表面中的凹部；以及耦合到引線框架的表面并且布置在凹部之上以形成腔的MEMS傳感器。替選地，引線框架可以具有穿過(guò)它形成的穿孔并且MEMS傳感器可以被耦合到引線框架的表面并且布置在穿孔的開口之上。

技術(shù)領(lǐng)域

各種實(shí)施例通常涉及可以包含隔膜元件的基于引線框架的傳感器結(jié)構(gòu)。

背景技術(shù)

許多傳統(tǒng)的換能器將隔膜偏轉(zhuǎn)轉(zhuǎn)換成與隔膜偏轉(zhuǎn)的大小成比例的電壓。這些換能系統(tǒng)的靈敏度經(jīng)常受以來(lái)自各種來(lái)源的電噪聲的形式的信號(hào)干擾的水平限制。在傳統(tǒng)的電容式麥克風(fēng)中，比如信號(hào)干擾的少數(shù)來(lái)源可以包含下面中的一個(gè)或多個(gè)：在麥克風(fēng)殼體中的聲音入口開口的大小；穿過(guò)電容器間隙的空氣流動(dòng)；轉(zhuǎn)換器電路系統(tǒng)的阻抗；以及麥克風(fēng)背容積的大小。

發(fā)明內(nèi)容

在各種實(shí)施例中，公開微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）傳感器結(jié)構(gòu)。MEMS傳感器結(jié)構(gòu)可以包含：用于支撐MEMS傳感器的引線框架；在引線框架的表面中的凹部；以及耦合到引線框架的表面并且布置在凹部之上以形成腔的MEMS傳感器。依據(jù)各種實(shí)施例，MEMS傳感器結(jié)構(gòu)可以被配置成將入射的聲波轉(zhuǎn)換成電信號(hào)。

附圖說(shuō)明

在附圖中，貫穿不同視圖相同的參考符號(hào)通常指的是相同的部分。附圖不必要成比例，而通常將重點(diǎn)放在圖解公開內(nèi)容的原理上。在下面的描述中，參考下面的附圖來(lái)描述公開內(nèi)容的各種實(shí)施例，在附圖中：

圖1描繪依據(jù)各種實(shí)施例的基于引線框架的換能器結(jié)構(gòu)的橫截面表示；

圖2描繪在圖1中表示的換能器結(jié)構(gòu)的自下而上的視圖；

圖3描繪在圖1中表示的換能器結(jié)構(gòu)的自上而下的視圖；

圖4描繪依據(jù)各種實(shí)施例的布置成臺(tái)階狀配置的基于引線框架的換能器結(jié)構(gòu)的橫截面表示；

圖5描繪在圖4中表示的換能器結(jié)構(gòu)的可能的實(shí)施例的橫截面表示；

圖6以示意性橫截面形式描繪在圖4中表示的臺(tái)階狀的基于引線框架的換能器結(jié)構(gòu)的可能的實(shí)施例；

圖7以示意性形式描繪在圖4中表示的換能器結(jié)構(gòu)的自上而下的視圖；

圖8描繪依據(jù)各種實(shí)施例的基于引線框架的換能器結(jié)構(gòu)的橫截面表示；

圖9以示意性橫截面形式描繪在圖8中表示的臺(tái)階狀的基于引線框架的換能器結(jié)構(gòu)的可能的實(shí)施例；

圖10以示意性形式描繪在圖8中表示的換能器結(jié)構(gòu)的自上而下的視圖。

具體實(shí)施方式

下面詳細(xì)的描述涉及附圖，附圖作為圖解示出在其中可以實(shí)踐公開內(nèi)容的特定細(xì)節(jié)和實(shí)施例。

在本文中詞“示范性”被用來(lái)表示“用作示例、實(shí)例、或圖解”。在本文中被描述為“示范性”的任何實(shí)施例或設(shè)計(jì)不必要被理解為比其它實(shí)施例或設(shè)計(jì)優(yōu)選或有利。

關(guān)于“在側(cè)或表面之上”形成的沉積的材料而使用的詞“在...之上”可以在本文中被用來(lái)表示沉積的材料可以“在暗示的側(cè)或表面上直接地”形成，例如與暗示的側(cè)或表面直接接觸。關(guān)于“在側(cè)或表面之上”形成的沉積的材料而使用的詞“在...之上”可以在本文中被用來(lái)表示沉積的材料可以“在暗示的側(cè)或表面上間接地”形成，其中一個(gè)或多個(gè)額外的層被布置在暗示的側(cè)或表面和沉積的材料之間。

在各種實(shí)施例中，隔膜可以包含板或膜。板可以被理解為在壓力下的隔膜。膜可以被理解為在張力下的隔膜。盡管各種實(shí)施例將關(guān)于膜在以下被更詳細(xì)地描述，但是它們可以替選地被提供板、或通常被提供隔膜。