[發(fā)明專利]用于從噪聲測量的功率頻譜提取主要頻譜分量的方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510272476.5 | 申請日: | 2012-04-27 |
| 公開(公告)號: | CN104878643B | 公開(公告)日: | 2017-04-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陳世欽 | 申請(專利權(quán))人: | ABB技術(shù)有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/89 | 分類號: | G01N21/89;D21G9/00;G01N33/34 |
| 代理公司: | 北京市金杜律師事務(wù)所11256 | 代理人: | 王茂華,楊立 |
| 地址: | 瑞士*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
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1.一種用于從噪聲測量的功率頻譜提取主要頻譜分量的方法,包括:
從功率譜中以大小順序?qū)λ蓄l譜分量進(jìn)行排序,以形成有序功率譜;
用第一多項(xiàng)式表示所述有序功率譜的背景噪聲;
關(guān)于所述第一多項(xiàng)式設(shè)置第一閾值;
將所述有序功率譜的頻譜分量與所述第一閾值比較;
將所述功率譜的超過所述第一閾值的頻譜分量從所述有序功率譜中去除,以形成噪聲功率譜;
用第二多項(xiàng)式表示所述功率譜中的所述噪聲功率譜;
關(guān)于所述第二多項(xiàng)式設(shè)置第二閾值;以及
將所述功率譜的超過所述第二閾值的頻譜分量識別為所述功率譜的主要頻譜分量。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述第一和第二多項(xiàng)式是低階多項(xiàng)式。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,進(jìn)一步包括:
通過選擇與所述第一多項(xiàng)式的距離而設(shè)置所述第一閾值,所述距離與所述頻譜分量的統(tǒng)計分布的標(biāo)準(zhǔn)偏差(σ1)有關(guān),所述頻譜分量包括關(guān)于所述第一多項(xiàng)式的參考值的所述有序功率譜的平坦區(qū)域。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,其中所述距離被設(shè)置在通過所述噪聲頻譜估計的所述背景噪聲的統(tǒng)計分布的大約五至十倍(5σ1-10σ1)的范圍內(nèi)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的方法,進(jìn)一步包括:
根據(jù)由所述噪聲頻譜估計的所述背景噪聲的統(tǒng)計分布的標(biāo)準(zhǔn)偏差(σ2)設(shè)置所述第二閾值。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所示的方法,其中所述第二閾值被設(shè)置在關(guān)于所述第二多項(xiàng)式的所述背景噪聲的標(biāo)準(zhǔn)偏差的大約三至六倍(3σ2-6σ2)的范圍內(nèi)。
7.根據(jù)前述權(quán)利要求1至6中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的主要頻譜提取方法用于控制化工廠中的閥的應(yīng)用,其中頻譜分量指的是管道的流速并且其中經(jīng)提取的主要頻譜分量的頻率與所述閥的控制參數(shù)的振蕩頻率匹配。
8.根據(jù)前述權(quán)利要求1至6中一項(xiàng)或多項(xiàng)所述的主要頻譜提取方法用于通過多個主要頻譜分量追蹤單獨(dú)的主要頻譜分量的根本原因的應(yīng)用,所述根本原因?yàn)槎鄠€不同的閥、泵和/或其它旋轉(zhuǎn)設(shè)備。
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- 專利分類
G01N 借助于測定材料的化學(xué)或物理性質(zhì)來測試或分析材料
G01N21-00 利用光學(xué)手段,即利用紅外光、可見光或紫外光來測試或分析材料
G01N21-01 .便于進(jìn)行光學(xué)測試的裝置或儀器
G01N21-17 .入射光根據(jù)所測試的材料性質(zhì)而改變的系統(tǒng)
G01N21-62 .所測試的材料在其中被激發(fā),因之引起材料發(fā)光或入射光的波長發(fā)生變化的系統(tǒng)
G01N21-75 .材料在其中經(jīng)受化學(xué)反應(yīng)的系統(tǒng),測試反應(yīng)的進(jìn)行或結(jié)果
G01N21-84 .專用于特殊應(yīng)用的系統(tǒng)
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