[發明專利]一種負載CQ的納米金封堵介孔二氧化硅控制釋放系統及其制備方法和應用

有效

• 申請號: 201510271819.6
• 申請日: 2015-05-25
• 公開（公告）號: CN105030655B
• 公開（公告）日: 2018-06-26
• 發明（設計）人: 劉杰;楊麗聰;周艷暉
• 申請（專利權）人: 暨南大學
• 主分類號: A61K9/00
• 分類號: A61K9/00;A61K31/47;A61K47/04;A61K47/02;A61P25/28
• 代理公司: 廣州粵高專利商標代理有限公司 44102
• 代理人: 楊昕昕;鄧義華

1.一種負載CQ的納米金封堵介孔二氧化硅控制釋放系統的制備方法，其特征在于，包含如下步驟：

S1.將介孔二氧化硅MSN進行氨基化修飾得MSN-NH₂；再經4-羧基苯硼酸修飾得MSN-BA；

S2.將MSN-BA溶于PBS中，超聲分散后加入金屬螯合劑CQ，攪拌反應12～24h，洗滌得負載CQ的MSN-BA；

S3.將負載CQ的MSN-BA溶于PBS中，再加入單糖修飾的AuNPs，攪拌反應12～24h，洗滌得負載CQ的納米金封堵介孔二氧化硅控制釋放系統MSN-CQ-AuNPs。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，S1.中所述的MSN-NH₂通過如下方法制備得到將MSN溶于有機溶劑中超聲分散，隨后加入3-氨丙基三乙氧基硅烷，回流反應12～24h，即得MSN-NH₂；所述的MSN-BA通過如下方法制備得到：將MSN-NH₂溶于DMSO中備用，將4-羧基苯硼酸、NHS和EDC溶于DMSO中攪拌反應10～20min，然后加入MSN-NH₂的DMSO溶液，在室溫下攪拌反應12～24h，離心、洗滌得經4-羧基苯硼酸修飾得MSN-BA。

3.根據權利要求2所述的制備方法，其特征在于，MSN-NH₂與3-氨丙基三乙氧基硅烷的用量比為1g:1～2mL，所述的有機溶劑為無水甲苯；所述的4-羧基苯硼酸、NHS、EDC和MSN-NH₂的用量比為1～2:1～2:1～2：3～5。

4.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，S2.中MSN-BA與金屬螯合劑CQ的用量比為：1g:50～100ml；金屬螯合劑CQ的濃度為1～2mM。

5.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，S3.中所述的負載CQ的MSN-BA與單糖修飾的AuNPs的摩爾比為1:1～1:6。

6.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，S3.中單糖修飾的AuNPs通過如下方法制備得到，將單糖與HAuCl₄·3H₂O溶液混合形成均一的水溶液，然后滴加還原劑至溶液變成酒紅色即得單糖修飾的AuNPs。

7.根據權利要求6所述的制備方法，其特征在于，所述的單糖為D-葡萄糖、D-半乳糖或D-甘露糖；所述的還原劑為硼氫化鈉，所述的單糖與HAuCl₄·3H₂O的摩爾比為1:1～1:6；所述HAuCl₄·3H₂O與還原劑的摩爾比為1:1～1:6。

8.權利要求1～7任一項制備方法制備得到的負載CQ的納米金封堵介孔二氧化硅控制釋放系統。

9.權利要求8所述的負載CQ的納米金封堵介孔二氧化硅控制釋放系統在制備治療阿爾茲海默癥的藥物中的應用。