[發明專利]基于溶膠射流靶的LPP?EUV光源系統

有效

• 申請號: 201510270184.8
• 申請日: 2015-05-25
• 公開（公告）號: CN104914680B
• 公開（公告）日: 2017-03-08
• 發明（設計）人: 張宗昕;冷雨欣;王成;趙全忠;王關德;程欣;李儒新
• 申請（專利權）人: 中國科學院上海光學精密機械研究所
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 上海新天專利代理有限公司31213
• 代理人: 張澤純,張寧展

1.一種基于溶膠射流靶的LPP-EUV光源系統，其特征在于，包括：

溶膠發生裝置(1)，用于產生溶膠(M1)；

溶膠噴射-循環裝置(2)，用于形成溶膠射流靶(M2)；

泵浦激光源(3)，用于輸出泵浦激光(L1)；

LPP-EUV發生裝置(4)，為泵浦激光(L1)作用于溶膠射流靶(M2)提供反應環境。

2.根據權利要求1所述的基于溶膠射流靶的LPP-EUV光源系統，其特征在于，所述的溶膠發生裝置(1)包括：噴嘴(101)、具有吸入口(G1)的接受室(102)、收縮管(103)、混合室(104)和擴散管(105)；

所述的噴嘴(101)置于接受室(102)的一端內，該接受室(102)的另一端經所述的收縮管(103)與所述的混合室(104)相連，該混合室與所述的擴散管(105)相連；

流體介質(C1)通過噴嘴(101)進入接受室(102)，由于文丘里效應使得靶材納米顆粒(C2)經吸入口(G1)進入接受室(102)，流體介質(C1)與靶材納米顆粒(C2)經收縮管(103)進入混合室(104)，兩者在混合室(104)混合后通過擴散管(105)的輸出口(G2)輸出溶膠(M1)。

3.根據權利要求1所述的基于溶膠射流靶的LPP-EUV光源系統，其特征在于，

所述的溶膠噴射-循環裝置(2)包括：緩存池(201)、第一循環動力泵(202a)和溶膠噴射器(203a)、第一輸送管道(204a)、第二循環動力泵(202b)、溶膠收集器(203b)和第二輸送管道(204b)；

所述的LPP-EUV發生裝置(4)包括：側壁上設置有光學窗片(401)的真空室(402)，使泵浦激光(L1)經該光學窗片(401)進入真空室(402)，在真空室(402)內、沿泵浦激光(L1)的傳播方向還設置有透鏡(403)；

所述的溶膠噴射器(203a)和溶膠收集器(203b)設置在該真空室(402)內，所述的緩存池(201)通過所述的第一輸送管道(204a)經所述的第一循環動力泵(202a)與所述的溶膠噴射器(203a)的輸入端相連，所述的溶膠收集器(203b)的輸出端通過所述的第二輸送管道(204b)經所述的第二循環動力泵(202b)與所述的緩存池(201)相連；

所述的溶膠(M1)進入緩存池(201)后，在第一循環動力泵(202a)的作用下通過第一輸送管道(204a)，經由溶膠噴射器(203a)在真空室(402)內形成溶膠射流靶(M2)，進入溶膠收集器(203b)后又在第二循環動力泵(202b)的作用下通過第二輸送管道(204b)，終而返回至緩存池(201)；所述的泵浦激光(L1)經凸透鏡(403)聚焦至溶膠射流靶(M2)產生EUV輻射(L2)。