[發(fā)明專利]光配向膜及其制作方法、顯示基板和顯示裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510263313.0
• 申請日: 2015-05-21
• 公開（公告）號: CN104808395B
• 公開（公告）日: 2018-01-02
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 江亮亮;王永燦;尹傛俊;干泉;涂志中
• 申請（專利權(quán)）人: 合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團股份有限公司
• 主分類號: G02F1/1337
• 分類號: G02F1/1337
• 代理公司: 北京清亦華知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙)11201
• 代理人: 趙天月

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種光配向膜及其制作方法、顯示基板和顯示裝置。

背景技術(shù)

在陣列基板與彩膜基板對盒形成顯示面板之前需要在陣列基板和彩膜基板的表面涂覆一層配向膜(一般組分為聚酰亞胺PI，簡稱PI膜)，然后通過摩擦(Rubbing)工藝在配向膜表面形成一定朝向的溝槽。現(xiàn)有摩擦配向方式為：利用絨毛的摩擦輥滾動摩擦所述配向膜，從而形成統(tǒng)一方向的預(yù)傾角，通過有序方向的溝槽具有的錨定能，使得液晶分子沿同一方向以預(yù)傾角傾斜定向排列。但是摩擦配向會對所述配向膜造成顆粒污染，影響產(chǎn)品良率；同時還會產(chǎn)生靜電，損傷液晶面板。

為了克服上述不足，業(yè)界內(nèi)逐步發(fā)展了光配向技術(shù)。通過線性偏振的紫外UV光照射在具有感光劑的聚合物配向膜上。通過光交聯(lián)、降解或者異構(gòu)化反應(yīng)，使配向膜在配向區(qū)域和非配向區(qū)域產(chǎn)生異向分布差異。此方法可以避免接觸式摩擦帶來的顆粒和靜電，而且可以進行小面積的配向。但是，獲取線性偏振的UV光較為復(fù)雜，設(shè)備維護較難，且控制區(qū)域有限，操作復(fù)雜，不便于生產(chǎn)線使用。

因此，需要提供一種新的光配向方法，以解決上述問題。

發(fā)明內(nèi)容

針對現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本發(fā)明提供一種光配向膜及其制作方法、顯示基板和顯示裝置，以解決現(xiàn)有技術(shù)中制作光配向膜工藝較為復(fù)雜的問題。

為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明提供以下技術(shù)方案：

第一方面，本發(fā)明提供了一種光配向膜的制備方法，包括：

在基板上形成光配向材料膜層；

利用干涉光照射所述光配向材料膜層，去除所述光配向材料膜層被干涉光照射分解的部分，以形成具有凹凸交替的溝槽結(jié)構(gòu)的光配向膜。

其中，所述利用干涉光照射所述光配向材料膜層，去除所述光配向材料膜層被干涉光照射分解的部分，以形成具有凹凸交替的溝槽結(jié)構(gòu)的光配向膜包括：

利用干涉光照射所述光配向材料膜層，在所述光配向材料膜層上形成明暗相間的干涉條紋，其中對應(yīng)于明干涉條紋處的光配向材料膜分解，對應(yīng)于暗干涉條紋處的光配向材料膜保留；

對干涉光照射后的光配向材料膜層進行清洗，去除光配向材料膜層被干涉光照射分解的部分，以形成具有凹凸交替的溝槽結(jié)構(gòu)的光配向膜。

其中，在利用干涉光照射所述光配向材料膜層之前，所述方法還包括：

利用干涉光形成裝置形成干涉光，包括：

使用包括依次設(shè)置的光源、第一透光板和第二透光板，所述第一透光板具有一個狹縫，所述第二透光板具有相距預(yù)設(shè)距離的兩個狹縫的干涉光形成裝置形成干涉光，其中，所述光源產(chǎn)生的光通過第一透光板的狹縫后再穿過第二透光板的兩個狹縫后形成干涉光。

其中，利用干涉光照射所述光配向材料膜層，去除光照分解的光配向材料膜層部分，以形成具有凹凸交替的溝槽結(jié)構(gòu)的光配向膜包括：

利用所述干涉光形成裝置形成的干涉光照射所述光配向材料膜層，在所述光配向材料膜層上形成明暗相間的干涉條紋，明干涉條紋和暗干涉條紋的寬度之和為x＝L*λ/d；其中對應(yīng)于明干涉條紋處的光配向材料膜分解，對應(yīng)于暗干涉條紋處的光配向材料膜保留；

對干涉光照射后的光配向材料膜層進行清洗，去除光配向材料膜層被干涉光照射分解的部分，以形成周期為x的凹凸交替的溝槽結(jié)構(gòu)的光配向膜；

其中，λ為光源產(chǎn)生的光的波長，L為第二透光板與所述光配向材料膜層的距離，d為第二透光板上兩個狹縫之間的距離。

其中，所述光源產(chǎn)生的光的波長λ為200nm～400nm。

其中，所述光配向材料膜層為具有感光特性的聚酰亞胺膜層。

其中，所述在基板上形成光配向材料膜層包括：在基板上涂覆具有感光特性的聚酰亞胺溶液并固化。

其中，所述清洗采用超聲波清洗、大氣壓等離子清洗、浸泡清洗、噴淋清洗中的一種或多種清洗方法。

其中，所述清洗所使用的清洗劑包括臭氧水溶液、氟氣水溶液、氯氣水溶液、溴氣水溶液、碘水溶液、過氧化氫、水、乙醇、異丙醇、乳酸乙酯、丙二醇甲醚醋酸酯中的一種或多種。

其中，所述干涉光為紫外干涉光。

第二方面，本發(fā)明還提供了一種光配向膜，其由上述的光配向膜的制備方法制備得到。

第三方面，本發(fā)明還提供了一種顯示基板，包括上述的光配向膜。

第四方面，本發(fā)明還提供了一種顯示裝置，包括上述的顯示基板。

由上述技術(shù)方案可知，本發(fā)明所述的光配向膜的制備方法，利用干涉光照射光配向材料膜層完成了光配向，形成了光配向膜，工藝簡單，成本較低、易實現(xiàn)。