[發明專利]一種交互式圖像摳圖系統在審
| 申請號: | 201510249640.0 | 申請日: | 2015-05-15 |
| 公開(公告)號: | CN104820990A | 公開(公告)日: | 2015-08-05 |
| 發明(設計)人: | 董冉冉;周志強;汪渤;李筍;王忠凱 | 申請(專利權)人: | 北京理工大學 |
| 主分類號: | G06T7/00 | 分類號: | G06T7/00 |
| 代理公司: | 北京理工大學專利中心 11120 | 代理人: | 高燕燕;仇蕾安 |
| 地址: | 100081 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 交互式 圖像 系統 | ||
1.一種交互式圖像摳圖系統,其特征在于,該系統包括交互輸入模塊、摳圖模塊和修正模塊;
交互輸入模塊中具有圖片選擇單元和標記單元;所述圖片選擇單元用于接收外部讀取指令,讀取原圖像并顯示;所述標記單元用于接收外部標記指令,并進行矩形框標記和/或涂鴉標記;
所述矩形框標記接收外部輸入的矩形框位置,并將矩形框外部像素設置成表示背景的像素值,稱為背景表征值,并將矩形框內的所有像素的像素值設置為可能前景的像素值,稱為可能前景表征值,背景表征值和可能前景表征值共同構成掩膜圖像,將原圖和所述掩膜圖像發送至摳圖模塊;
所述涂鴉標記為:接收外部輸入的背景涂鴉位置、前景涂鴉位置、可能背景涂鴉位置以及可能前景涂鴉位置,在掩膜圖像的矩形框內,將背景涂鴉位置和可能背景涂鴉位置對應的像素點設置成背景表征值,將前景涂鴉位置和可能前景涂鴉位置對應的像素點設置成前景表征值,掩膜圖像中的剩余部分仍保持原來的表征值,由此更新掩膜圖像,將原圖和更新后的掩膜圖像發送至摳圖模塊;
所述摳圖模塊接收原圖以及掩膜圖像,以所述背景表征值對應的原圖像素點作為背景樣本點,以所述前景表征值和可能前景表征值對應的原圖像素點作為前景樣本點,然后使用最小描述長度MDL聚類方法在三原色RGB顏色空間里,將前景樣本點和背景樣本點分別聚類為多個高斯混合模型GMM,并得出每個GMM的高斯參數;
接著重復下述迭代過程:為原圖中每一個像素分配其所屬的GMM模型,并更新計算每個GMM模型的高斯參數,定義吉布斯Gibbs能量函數,構造整個原圖的圖模型,并利用最大流/最小割max?flow/min?cut方法進行能量最小化的圖像分割,并對圖像分割結果使用區域選擇性引導濾波進行邊緣細化,獲得摳圖結果,用戶指定是否對摳圖結果進行進一步修正,若需要進一步修正,則將摳圖結果輸入至所述修正模塊,若不需要,則摳圖完成;
所述修正模塊調用所述交互輸入模塊,并等待用戶輸入涂鴉標記,依據涂鴉標記更新掩膜圖像,將原圖和更新后的掩膜圖像發送至摳圖模塊進一步進行摳圖。
2.如權利要求1所述的一種交互式圖像摳圖系統,其特征在于,所述矩形框位置是通過標記單元提供的矩形框控件獲取的,涂鴉位置是通過標記單元提供的涂鴉畫筆獲取的,涂鴉畫筆包括背景涂鴉畫筆、前景涂鴉畫筆、可能背景涂鴉畫筆以及可能前景涂鴉畫筆,且畫筆勾畫位置限制在矩形框內。
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