[發明專利]一種制備連續面形螺旋相位板的方法

在審

• 申請號: 201510243020.6
• 申請日: 2015-05-13
• 公開（公告）號: CN104865790A
• 公開（公告）日: 2015-08-26
• 發明（設計）人: 史立芳;曹阿秀;郭書基;鄧啟凌;張滿;龐輝;王佳舟
• 申請（專利權）人: 中國科學院光電技術研究所
• 主分類號: G03F1/50
• 分類號: G03F1/50;G03F7/22;G02F1/01
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種制備連續面形螺旋相位板的方法，其特征在于，該方法包含以下步驟：

步驟(1)、根據目標面形進行掩模設計，具體為：假設該螺旋相位板的三維面形函數為f(x,y)，其口徑大小為D，選擇抽樣間隔d來對其進行量化，將該三維結構在某一方向上量化成N個等間隔的條形子區域，可以表達為f_i(x,y),i＝1，2……N，將每個條形子區域等比例投影到其抽樣位置處的間隔內，此時其函數可以表達為i＝1,2......N,其中C為常數，表示出了投影縮放時的比例，那么可以獲得每個區域的子掩模函數可以表達為M_i(x,y)，其中，當(i-1)·d<y<(i-1)·d-f_i(x)時，M_i(x,y)＝1，對應的是子掩模中不透光區，其余部分M_i(x,y)＝0，對應的是子掩模中的透光區，將所有的子掩模進行組合，即可獲得總掩模圖形M(x,y)；

步驟(2)、利用該掩模板對基片上涂覆的抗蝕劑進行曝光；

步驟(3)、將曝光后的抗蝕劑進行顯影，后烘，獲得抗蝕劑上的面形結構；

步驟(4)、采用刻蝕技術將抗蝕劑上的結構傳遞到所需要的基片材料上。

2.根據權利要求1所述的一種制備連續面形螺旋相位板的方法，其特征在于：抽樣間隔d的選擇標準為：首選計算得到值假設所要制備的螺旋相位板的目標高度為h，那么，如果a≤10h，那么d＝a；如果a>10h，那么d＝10h。

3.根據權利要求1所述的一種制備連續面形螺旋相位板的方法，其特征在于：該掩模設計完成后，需要利用該掩模采用移動曝光實現對光刻膠的感光，即邊曝光邊將掩模與光刻膠進行相對位置移動，移動的距離為抽樣間隔d。