[發(fā)明專利]傳感器體、傳感器體的制造方法以及傳感器盒有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510242415.4 | 申請日: | 2015-05-13 |
| 公開(公告)號: | CN105092667B | 公開(公告)日: | 2019-02-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 倉田雄二;兼田悠 | 申請(專利權(quán))人: | 愛科來株式會社 |
| 主分類號: | G01N27/26 | 分類號: | G01N27/26 |
| 代理公司: | 北京三友知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11127 | 代理人: | 李輝;黃綸偉 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 傳感器 制造 方法 以及 | ||
1.一種傳感器體,其特征在于,
所述傳感器體包含:
帶狀的襯膜;
多個膜狀傳感器,其配置在所述襯膜的一個面上;以及
粘接層,其配置于所述襯膜與所述膜狀傳感器之間,粘接所述襯膜和所述膜狀傳感器,
前后的各膜狀傳感器在所述襯膜的長度方向上分開規(guī)定的距離,各所述膜狀傳感器的寬度比所述襯膜的寬度短規(guī)定的量,
關(guān)于所述粘接層,對所述多個膜狀傳感器的邊界部分從所述膜狀傳感器側(cè)至少半切至所述粘接層的中途。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的傳感器體,其特征在于,
所述傳感器體構(gòu)成為,當(dāng)使所述襯膜的某個膜狀傳感器的端部下的部分以與所述一個面不同的面即背面朝向內(nèi)側(cè)的姿勢在所述傳感器體的長度方向上按照規(guī)定的曲率以下的曲率進(jìn)行彎曲時,該膜狀傳感器的所述端部從所述襯膜剝離。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的傳感器體,其特征在于,
所述襯膜具有吸濕性。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的傳感器體,其特征在于,
各膜狀傳感器是在對置的2個端部設(shè)置有凹部或凸部的傳感器,
各膜狀傳感器以設(shè)置有凹部或凸部的各個端部與所述襯膜的長度方向大致平行的方式粘接在所述襯膜的一個面上的中央部分。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的傳感器體,其特征在于,
所述傳感器體還包含以包覆所述膜狀傳感器的狀態(tài)粘接在所述襯膜的所述一個面上的蓋膜。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的傳感器體,其特征在于,
所述蓋膜具有吸濕性。
7.一種傳感器體的制造方法,其特征在于,
所述傳感器體的制造方法包含以下工序:
在襯膜的一個面上形成粘接層的工序;
在襯膜上通過粘接層與包含多個膜狀傳感器的連續(xù)的層疊體之間進(jìn)行粘接的工序;
對所述傳感器體的各膜狀傳感器的邊界部分從所述層疊體側(cè)至少半切到所述粘接層的中途的工序;以及
將所述襯膜上的所述層疊體中的除所述膜狀傳感器以外的部分一并去除的工序,
前后的各膜狀傳感器在所述襯膜的長度方向上分開規(guī)定的距離,各所述膜狀傳感器的寬度比襯膜的寬度短規(guī)定的量。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的傳感器體的制造方法,其中,
在進(jìn)行半切的所述工序中,對于所述傳感器體的各膜狀傳感器的邊界部分,從所述層疊體側(cè)至少半切至所述襯膜的中途。
9.一種傳感器盒,其特征在于,
所述傳感器盒具備:
卷盤,在該卷盤上卷繞有權(quán)利要求1至6中任意一項(xiàng)所述的傳感器體;
殼體,在該殼體的內(nèi)部收容有所述卷盤,該殼體具有能夠供在所述卷盤上卷繞的所述傳感器體通過的傳感器突出口、和能夠供所述傳感器體的所述襯膜通過的膜收容口,在該殼體中,從所述卷盤上退卷的所述傳感器體以所述襯膜的背面朝向所述膜收容口的方向的姿勢插入所述傳感器突出口;以及
旋轉(zhuǎn)體,該旋轉(zhuǎn)體收容于所述殼體內(nèi),能夠從所述殼體外使該旋轉(zhuǎn)體旋轉(zhuǎn),該旋轉(zhuǎn)體朝向使卷繞于所述卷盤上的所述傳感器體退卷的方向驅(qū)動所述傳感器體,該傳感器體以所述襯膜的背面朝向所述膜收容口的方向的所述姿勢插入所述傳感器突出口,并在通過所述傳感器突出口附近的部分取下所述膜狀傳感器之后經(jīng)由所述膜收容口返回到所述殼體內(nèi),
在所述傳感器突出口與所述膜收容口之間存在的所述殼體的部分具有下述這樣的形狀:當(dāng)使所述襯膜沿著該部分進(jìn)行彎曲時,所述襯膜的至少一部分以所述規(guī)定的曲率以下的曲率進(jìn)行彎曲。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的傳感器盒,其特征在于,
所述傳感器體以所述襯膜的所述一個面朝向內(nèi)側(cè)的姿勢卷繞在所述卷盤上。
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