[發明專利]沉積用掩模、沉積用掩模框架組件及其制造方法有效
| 申請號： | 201510242242.6 | 申請日： | 2015-05-13 |
| 公開（公告）號： | CN106191767B | 公開（公告）日： | 2019-06-04 |
| 發明（設計）人： | 韓政洹 | 申請（專利權）人： | 三星顯示有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/04 | 分類號： | C23C14/04;C23C16/04;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京英賽嘉華知識產權代理有限責任公司 11204 | 代理人： | 余朦;劉錚 |
| 地址： | 韓國*** | 國省代碼： | 韓國;KR |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 沉積 用掩模 框架 組件 及其 制造 方法 | ||
【權利要求書】：
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