[發明專利]一種氧化石墨烯的場發射平板顯示儀的制備方法

有效

• 申請號: 201510241054.1
• 申請日: 2015-05-12
• 公開（公告）號: CN104835708B
• 公開（公告）日: 2017-01-25
• 發明（設計）人: 趙波;王楠;姜國華
• 申請（專利權）人: 江蘇師范大學
• 主分類號: H01J29/04
• 分類號: H01J29/04;H01J31/12;H01J1/304
• 代理公司: 上海旭誠知識產權代理有限公司31220
• 代理人: 鄭立

1.一種氧化石墨烯的場發射平板顯示儀的制備方法，其特征在于，所述制備方法包括如下步驟：

步驟一，在襯底上涂覆光刻膠；

步驟二，對所述光刻膠進行圖形化，使所述襯底上暴露需要制備場發射點的區域；

步驟三，鍍覆金屬薄膜；

步驟四，在所述金屬薄膜上磁場輔助沉降鎳納米顆粒；

步驟五，在真空爐中對步驟四得到的樣品進行熱處理；

步驟六，在步驟五得到的樣品表面沉積氧化石墨烯；

步驟七，除去樣品上剩余的光刻膠，得到場發射點陣；

步驟八，對場發射點陣進行布線；

步驟九，在步驟八得到的樣品上方平行放置鍍有熒光粉的ITO玻璃片，樣品與所述玻璃片用絕緣材料隔開一定距離，制成場發射平板模塊；

步驟十，使用單片機和移位寄存器數組成外圍電路，結合所述場發射平板模塊實現屏顯。

2.根據權利要求1所述的一種氧化石墨烯的場發射平板顯示儀的制備方法，其特征在于，步驟一中，所述襯底選自玻璃、陶瓷、含有絕緣層的硅、含有絕緣層的鍺、聚乙烯、聚四氟乙烯、聚甲基丙烯酸甲酯之中的一種；所述光刻膠選自雙疊氮系光刻膠、酚醛樹脂系光刻膠、紫外光刻膠、深紫外光刻膠、電子束膠、離子束膠、X射線膠之中的一種。

3.根據權利要求1所述的一種氧化石墨烯的場發射平板顯示儀的制備方法，其特征在于，步驟二中，所述圖形化的方法是：對光刻膠進行曝光、顯影、部分去膠。

4.根據權利要求1所述的一種氧化石墨烯的場發射平板顯示儀的制備方法，其特征在于，步驟三中，所述鍍覆選自以下方法中的任意一種：電子束蒸發法、磁控濺射法、化學氣相沉積法和化學鍍法；所述金屬選自W、Mo、Au、Ni、Ti、Cr、Pt或Pd之中的一種。

5.根據權利要求1所述的一種氧化石墨烯的場發射平板顯示儀的制備方法，其特征在于，步驟四中，所述磁場輔助沉降鎳納米顆粒步驟為：在鎳納米顆粒懸濁液四周或者底部放置一塊永磁鐵，或者將鎳納米顆粒懸濁液置于均勻磁場中，再將鍍有金屬薄膜的襯底垂直于磁場放置在鎳納米顆粒懸濁液之中。

6.根據權利要求1所述的一種氧化石墨烯的場發射平板顯示儀的制備方法，其特征在于，步驟五中，所述熱處理是指：在200℃～600℃的真空或者惰性氣體保護氣氛中加熱5～8小時。

7.根據權利要求1所述的一種氧化石墨烯的場發射平板顯示儀的制備方法，其特征在于，步驟七中，場發射點陣為：點與點之間間距為0.5～500微米，每個點的面積為0.1～10000平方微米。

8.根據權利要求1所述的一種氧化石墨烯的場發射平板顯示儀的制備方法，其特征在于，步驟八中，所述布線使用的方法是：利用套刻方法對樣品的每一個點進行布線。

9.根據權利要求1所述的一種氧化石墨烯的場發射平板顯示儀的制備方法，其特征在于，步驟九中，所述絕緣材料為橡膠、云母或聚四氟乙烯中的一種，所述絕緣材料厚度為50～500微米。

10.根據權利要求1所述的一種氧化石墨烯的場發射平板顯示儀的制備方法，其特征在于，步驟十中，使用的單片機芯片為：51單片機或者飛思卡爾單片機；使用的移位寄存器為以下種類中的一種：八位單向移位寄存器、八位雙向移位存器、四位單向移存器、四位雙向移位存器；實現屏顯是指：將要顯示圖像通過單片機組成的控制模塊進行處理，將發光點的位置信息傳遞給移位寄存器組成的驅動模塊，驅動模塊控制對應的點發光從而實現屏顯。