[發明專利]用于對準兩個襯底的設備

有效

• 申請號: 201510240942.1
• 申請日: 2010-08-26
• 公開（公告）號: CN105244305B
• 公開（公告）日: 2019-04-16
• 發明（設計）人: D.菲古拉
• 申請（專利權）人: EV集團E·索爾納有限責任公司
• 主分類號: H01L21/68
• 分類號: H01L21/68
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 姜冰;劉春元

1.用于使能接納在第一平臺（10）上的第一襯底（1）的第一接觸面（1k）與能接納在第二平臺（20）上的第二襯底（2）的第二接觸面（2k）對準的設備，具有以下特征：

- 能通過第一檢測裝置（7,7’）在與第一襯底（1）的移動無關的第一X-Y坐標系中的第一X-Y平面（5）中檢測沿著第一接觸面（1k）布置的第一對準鍵（3.1至3.n）的第一X-Y位置，

- 能通過第二檢測裝置（8,8’）在與第二襯底（2）的移動無關的第二X-Y坐標系中的與第一X-Y平面（5）平行的第二X-Y平面（6）中檢測沿著第二接觸面（2k）布置的與第一對準鍵（3.1至3.n）對應的第二對準鍵（4.1至4.n）的第二X-Y位置，

- 能基于第一X-Y位置在第一對準位置對準第一接觸面（1k）并且能基于第二X-Y位置在第二對準位置對準第二接觸面（2k），

- 所述設備通過測量對準結果并且與所計算的或標稱的結果比較來對下一襯底組對的對準進行校準或優化從而是適應性的或自學習的。

2.根據權利要求1所述的設備，其特征在于，能利用相對應的第二對準鍵（4.1至4.n）檢測和對準多于兩個第一對準鍵（3.1至3.n）的第一X-Y位置。

3.根據前述權利要求之一所述的設備，其特征在于，在檢測第一和第二X-Y位置時的第一和第二X-Y平面（5,6）與在接觸時的第一和第二接觸面（1k，2k）的接觸平面是相同的。

4.根據權利要求1-2之一所述的設備，其特征在于，第一和/或第二X-Y坐標系被分配給所述設備的基底（9）。

5.根據權利要求1-2之一所述的設備，其特征在于，第一和/或第二檢測裝置（7,7’,8,8’）在檢測和/或對準和/或接觸期間能被固定。

6.根據權利要求5所述的設備，其特征在于，第一和/或第二檢測裝置（7,7’,8,8’）在檢測和/或對準和/或接觸期間能以機械的方式被固定。

7.根據權利要求5所述的設備，其特征在于，第一和/或第二檢測裝置（7,7’,8,8’）在檢測和/或對準和/或接觸期間能被固定在基底（9）處。

8.根據權利要求1-2之一所述的設備，其特征在于，所述設備能通過用于檢驗所接觸襯底（1,2）的對準的檢驗裝置來校準。

9.根據權利要求1-2之一所述的設備，其特征在于，第一和第二X-Y坐標系是笛卡爾坐標系和/或具有相同的標度和/或重合。

10.根據權利要求1-2之一所述的設備，其特征在于，第一檢測裝置（7,7’）具有唯一的第一對準鍵探測器（1000,1000’）和/或第二檢測裝置（8,8’）具有唯一的第二對準鍵探測器（2000,2000’）。

11.根據權利要求1-2之一所述的設備，其特征在于，為了平行地對準第一和第二接觸面（1k，2k），設置無接觸地工作的第一和第二距離測量裝置（1002，2002）以及用于橫向于X-Y平面（5,6）移動襯底（1,2）的執行器（11,21）。

12.用于使能接納在第一平臺上的第一襯底的第一接觸面與能接納在第二平臺上的第二襯底的第二接觸面對準的方法，具有以下步驟：

- 在第一X-Y平面中布置第一接觸面和在與第一X-Y平面平行的第二X-Y平面中布置第二接觸面，

- 通過第一檢測裝置在與第一襯底的移動無關的第一X-Y坐標系中檢測沿著第一接觸面布置的第一對準鍵的X-Y位置，并且通過第二檢測裝置在與第二襯底的移動無關的第二X-Y坐標系中檢測沿著第二接觸面布置的與第一對準鍵對應的第二對準鍵的X-Y位置，

- 在基于第一X-Y位置確定的第一對準位置對準第一接觸面并且在與第一接觸面相對的基于第二X-Y位置確定的第二對準位置對準第二接觸面，

其中所述方法通過測量對準結果并且與所計算的或標稱的結果比較來對下一襯底組對的對準進行校準或優化從而是適應性的或自學習的。