[發明專利]閘閥

有效

• 申請號: 201510215805.2
• 申請日: 2015-04-29
• 公開（公告）號: CN105020423B
• 公開（公告）日: 2018-10-26
• 發明（設計）人: 石垣恒雄;下田洋己;長尾格
• 申請（專利權）人: SMC株式會社
• 主分類號: F16K3/18
• 分類號: F16K3/18;F16K51/02
• 代理公司: 上海市華誠律師事務所 31210
• 代理人: 梅高強;崔巍

一種閘閥(10)，在組成閘閥(10)的閥箱(16)中，平衡室(32)配置在面對處理室(S1)的一側壁(16a)上。在平衡室(32)中，第一密封構件(34)配置成包圍第一通道(12)，并且第二密封構件(36)安裝在平衡室(32)的外邊緣上。進一步，平衡端口(38)形成在平衡室(32)中。平衡端口(38))與形成在閥箱(16)的內部的容納室(28)連通。在閥盤(24)座設在閥箱(16)的閥座(30)的閥閉合狀態下，在容納室(28)內側的壓力和在平衡室(32)內側的壓力通過平衡端口(38)相等或者一致。

技術領域

本發明涉及一種閘閥，該閘閥安裝在半導體處理設備中的真空室中，并且設置用于打開/閉合與真空室連通的開口。

背景技術

迄今為止，在用于半導體晶片或者液晶基板等等的處理設備中，執行半導體晶片或者液晶基板等等通過通道進入或離開各個處理室的操作。在各個通道中，閘閥被用于執行打開和閉合通道的操作。

例如，如在日本專利申請公報No.11-351419中公開的，這種閘閥設置成通過閥桿的線性移動在閥箱中，使得閥盤處在與閥座面對的位置，閥桿在缸的驅動作用下位移。此后，通過使閥盤水平地移動從而閥盤的密封構件擠壓閥座，形成在閥箱中的通道閉合。

發明內容

在上述閘閥中，已知這種情況：例如，在閥盤座設在閥座上的閥閉合狀態下，連接到閥箱的一端側的一個處理室保持在大氣壓，然而連接到閥箱的另一端側的另一個處理室保持在真空。在這種情況下，由于一個處理室和閥箱的內部由閥盤分開，然而另一個處理室和閥箱的內部連通并且保持在真空壓力，由于產生在閥箱的內側和閥箱的外側的壓力差，閥箱的壁被向內擠壓并且趨于經受變形。

特別地，如果設置用于座設閥盤的壁部經受變形，閥盤上的密封構件的密封性能將劣化。因此，為了抑制由于壓力差的閥箱的變形，盡管可以考慮事先使得閥箱的壁形成具有某個厚度。在這種情況下，然而，閥箱的重量增加，并且也不利地增加了整個閘閥的總重量。

本發明的主要目的是提供一種閘閥，該閘閥能夠防止閥箱的變形同時避免重量增加，并且當閘閥閉合時，能夠可靠地和穩定地執行密封。

本發明的特征是，閘閥配備有：閥箱；閥盤，該閥盤被構造成座設在形成在閥箱中的閥座上；閥桿，該閥桿連接到閥盤并且被構造成使得閥盤進行線性移動以及接近和遠離閥座的移動；和驅動單元，該驅動單元配置在外殼的內部，閥箱連接到外殼，驅動單元使閥桿沿著軸線方向線性地位移。

在閘閥中，閥箱包括：

容納室，閥盤被容納在該容納室中；

壁部，該壁部構成容納室的一部分并且具有閥座，閥盤座設在閥座上；

通道，該通道形成在壁部中并且提供容納室和鄰近于閥箱的處理室之間的連通；

平衡室，該平衡室以面對處理室的關系形成在壁部中；和

連通端口，該連通端口提供平衡室和容納室之間的連通，并且配置成在平衡室的內部不與通道連通。

根據本發明，在組成閘閥的閥箱中，設置一些元件，諸如，容納室，閥盤被容納在容納室中；壁部，該壁部具有閥座，閥盤座設在閥座上；通道，該通道形成在壁部中并且提供容納室和鄰近于閥箱的處理室之間的連通；平衡室，該平衡室形成為面對處理室；和連通端口，該連通端口提供平衡室和容納室之間的連通，并且配置成在平衡室的內部不與通道連通。

因此，例如，在閥盤座設在閥座上的閥閉合狀態下，即使在容納室和鄰近于容納室的處理室之間產生壓力差，容納室和平衡室的壓力通過連通端口相等或者設置成相同的壓力，從而避免由于壓力差產生的作用到設置在容納室和處理室之間的壁部的負載。因此，不用增加閥箱的重量，能夠可靠地防止由于壓力差導致的閥箱中的壁部的變形。進一步，通過防止設置在壁部中的閥座的變形，當閘閥閉合時能夠可靠地且穩定地執行閥盤相對于閥座的密封。