[發(fā)明專利]顯示基板的制備方法、顯示面板的制備方法、顯示裝置有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510210499.3 | 申請日： | 2015-04-29 |
| 公開（公告）號： | CN104765213B | 公開（公告）日： | 2018-09-04 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 周永山;李京鵬;宋省勛 | 申請（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團股份有限公司;北京京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號： | G02F1/1347 | 分類號： | G02F1/1347;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;張?zhí)焓?/td> |
| 地址： | 100015 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 顯示 制備 方法 面板 顯示裝置 | ||
1.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，包括在所述顯示基板的取向?qū)油瓿扇∠蚝髮λ鲲@示基板進行第一次紫外線照射的步驟，使得顯示基板的金屬層上的電子在第一次紫外線的照射下接收能量發(fā)生遷移，均勻分布在顯示基板顯示區(qū)域的取向?qū)由稀?/p>
2.如權(quán)要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述紫外線的波長范圍為200-400nm。
3.如權(quán)要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述紫外線的照度大于500勒克司度。
4.如權(quán)利要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述顯示基板為陣列基板，所述金屬層包括像素電極層。
5.如權(quán)利要求1所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述顯示基板為彩膜基板，所述金屬層包括公共電極層。
6.一種顯示面板的制備方法，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-5任一項所述的顯示基板的制備方法。
7.如權(quán)利要求6所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，還包括：
制備對向基板，所述對向基板用于與所述的顯示基板對盒形成顯示面板；
在所述顯示基板或?qū)ο蚧迳贤扛卜饪蚰z；
將所述顯示基板和對向基板對盒；
在所述顯示基板和對向基板之間設(shè)置液晶。
8.如權(quán)利要求7所述的顯示面板的制備方法，其特征在于，還包括：在將所述顯示基板和對向基板對盒之后，對所述封框膠進行第二次紫外線照射完成所述封框膠固化，第二次紫外線的波長大于等于第一次紫外線的波長，第二次紫外線的照度小于等于第一次紫外線的照度。
9.一種顯示裝置，其特征在于，所述顯示裝置是采用權(quán)利要求6-8任一項所述的顯示面板的制備方法制備的顯示面板。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào)，上述器件或裝置的光學(xué)操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學(xué)性質(zhì)來修改的；用于上述操作的技術(shù)或工藝；變頻；非線性光學(xué)；光學(xué)
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置，例如，轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制；非線性光學(xué)
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制，即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學(xué)
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的
