[發(fā)明專利]一種陣列基板和液晶顯示面板在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510152693.0 | 申請日: | 2015-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN104698709A | 公開(公告)日: | 2015-06-10 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 柴慧平;袁永 | 申請(專利權(quán))人: | 上海天馬微電子有限公司;天馬微電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/1362 | 分類號: | G02F1/1362;G02F1/1368;G02F1/1333;G06F3/041 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 王寶筠 |
| 地址: | 201201 上海*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 陣列 液晶顯示 面板 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示器技術(shù)領(lǐng)域,特別涉及一種陣列基板和液晶顯示面板。
背景技術(shù)
目前的液晶顯示面板的主體包括彩膜基板和陣列基板,其中,陣列基板在生產(chǎn)過程中,需要盡量保證表面圖形的平坦性,以免給后續(xù)制程造成不便,因此,在陣列基板的表面會制作一層平坦層。
但是,對于集成觸控功能的液晶顯示面板,需要加入觸控走線。觸控走線的作用是將每個觸控電極連接到觸控驅(qū)動芯片。其中,所述觸控電極與所述觸控走線一般不在同一層上設(shè)置,每根觸控走線穿過過孔與所述觸控電極電連接。需要說明的是,在集成觸控功能的液晶顯示面板中,觸控電極和公共電極可以共用,也可以分開獨立設(shè)置。
現(xiàn)有技術(shù)中,集成觸控功能的液晶顯示面板一般將觸控走線制作在平坦層之上。在數(shù)據(jù)線層之上為平坦層,在平坦層之上為觸控走線,在觸控走線之上為第一絕緣層,在所述第一絕緣層之上為公共電極層,在公共電極層之上為第二絕緣層,在第二絕緣層之上為像素電極層。
與沒有集成觸控功能的液晶顯示面板相比,集成觸控功能的液晶顯示面板在薄膜晶體管基板一側(cè)設(shè)置了觸控走線,這就使得位于所述觸控走線之上的膜層表面不平坦,這樣將對后續(xù)的摩擦rubbing效果產(chǎn)生很大的影響,導(dǎo)致產(chǎn)品漏光等問題。
因此,本領(lǐng)域技術(shù)人員需要提供一種液晶顯示裝置及電子設(shè)備,能夠在添加了觸控走線之后,解決表面平坦的問題,而且不會對后續(xù)制程造成影響。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種陣列基板和液晶顯示面板,能夠解決由觸控走線的設(shè)置而引起的位于觸控走線之上的膜層表面不平坦的問題,從而消除由于觸控走線的設(shè)置而對后續(xù)制程造成的不良影響。
本發(fā)明實施例提供一種陣列基板,包括:
呈矩陣排列的多個薄膜晶體管,每個所述薄膜晶體管包括柵極、源極和漏極;
覆蓋所述多個薄膜晶體管之上的第一平坦層;
位于所述第一平坦層之上的觸控走線層,所述觸控走線層包括多條觸控走線;
位于所述觸控走線層之上的第二平坦層。
本發(fā)明實施例還提供一種液晶顯示面板,包括所述的陣列基板;還包括與所述陣列基板相對設(shè)置的彩膜基板,所述陣列基板和所述彩膜基板之間設(shè)置有液晶層。
與現(xiàn)有技術(shù)相比,本發(fā)明具有以下優(yōu)點:
本發(fā)明中對陣列基板的結(jié)構(gòu)進行了優(yōu)化,設(shè)置兩層平坦層,第一平坦層位于薄膜晶體管之上,另外,還在觸控走線層之上再設(shè)置一層平坦層,即第二平坦層。這樣可以改善觸控走線層中由觸控走線的設(shè)置而引起的位于觸控走線之上的膜層表面不平坦的問題,從而消除了由于觸控走線的設(shè)置而對后續(xù)制程造成的不良影響。并且,由于觸控走線位于第一平坦層和第二平坦層之間,因此,這樣可以節(jié)省現(xiàn)有技術(shù)中與觸控走線層相鄰的絕緣層。現(xiàn)有技術(shù)中,需要在觸控走線層和公共電極層之間設(shè)置一層絕緣層,在公共電極與像素電極之間設(shè)置一層絕緣層,而本發(fā)明中只需要在公共電極和像素電極之間設(shè)置一層絕緣層。因此本實施例提供的這種陣列基板,相對于現(xiàn)有技術(shù)減少了一層絕緣層,相應(yīng)可以節(jié)省一層絕緣層的化學氣相沉積成膜制程。并且,觸控走線之上設(shè)有一層平坦層,這樣可以做到觸控走線之上的平坦性更好,摩擦rubbing漏光問題可以得到改善。而且觸控走線由于位于兩層平坦層之間,因此,觸控走線可以做得更厚,這樣可以降低觸控走線整體的電阻。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1是本發(fā)明提供的陣列基板一種實施例的剖面圖;
圖2是本發(fā)明提供的陣列基板又一種實施例的剖面圖;
圖3是本發(fā)明提供的陣列基板另一種實施例的剖面圖;
圖4是本發(fā)明提供的陣列基板又一種實施例的剖面圖;
圖5是本發(fā)明提供的陣列基板的另一個實施例的剖面圖;
圖6是本發(fā)明提供的顯示面板的剖面圖;
圖7是本發(fā)明提供的電子設(shè)備的示意圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導(dǎo)結(jié)構(gòu)中的





