[發明專利]梯形流電積裝置

在審

• 申請號: 201510140271.1
• 申請日: 2015-03-27
• 公開（公告）號: CN104775132A
• 公開（公告）日: 2015-07-15
• 發明（設計）人: 王浩;張偉;俞鷹
• 申請（專利權）人: 張家港聯合銅業有限公司
• 主分類號: C25C1/12
• 分類號: C25C1/12;C25C7/06
• 代理公司: 蘇州創元專利商標事務所有限公司 32103
• 代理人: 孫仿衛

技術領域

本發明屬于有色金屬冶煉的電解液凈化技術領域，特別涉及一種梯形流電積裝置。

背景技術

目前，銅精煉后，在對電解液凈化的過程中，現有的慣用措施是將電解液中的銅離子析出，而后繼續回流至原電解槽內，析出的銅離子則吸附在陰極板上。因目前在凈化過程中大多采用的循環量較小，而且循環方式為溶液從槽底部或端頭進入，從槽另一個端頭出去，溶液流動慢且分布不均勻，不能保證在陰極附近的金屬離子始終處于較高的濃度，當電流密度提高、陰極上離子析出加快時，必將產生濃差極化，循環量大時還會引起沉淀物的攪動使溶液混濁或者造成陽極泥漂浮。至此，導致吸附在陰極板上的銅離子外觀質量差，達不到GB/T467—2010中Cu-CATH-2牌號標準陰極銅的要求，只能作為廢銅料返回精煉爐重新熔煉，在此再循環的過程中不可避免地造成了能源的浪費，增加了加工成本和加工過程中銅離子的損失。

發明內容

本發明的目的是提供一種利用梯形流技術制備陰極銅的電積裝置，該裝置通過提高循環速度來增大循環量。

為達到上述目的，本發明采用的技術方案是：梯形流電積裝置，包括儲液槽、若干電積槽、連接在所述儲液槽出液端上的進液總管、連接在所述電積槽出液端與所述儲液槽入液端間的回流管、設于所述電積槽內的進液支管，所述進液支管的管口與所述進液總管上的管出口相連，所述進液支管上沿其軸向開設有多個與其管腔相通的噴射孔，每個所述電積槽內的電解液循環速度控制在75~105L/min，所述電積裝置還包括設于所述進液支管前的電解銅添加劑投加裝置以及安裝在所述進液支管前的加熱裝置。

優選地，所述電積裝置還包括至少包裹在所述進液支管上開設有所述噴射孔一側的濾網，用以降低所述噴射孔處的出液速度。

優選地，所述電積裝置還包括設置在所述進液支管前的過濾裝置，用于過濾電解液中的雜質。

優選地，每個所述電積槽內的所述進液支管至少有一根，且所述進液支管沿所述電積槽一側的長側壁設置，所有所述進液支管沿所述電積槽的高度方向間隔分布。

優選地，所述電積槽的一側壁上還開設有與所述回液管相通的回液口。

優選地，所述電積裝置還包括固設在所述電積槽內設有所述進液支管的一側側壁上的固定件，用于固定所述進液支管，所述固定件有多個，沿所述側壁的長度延伸方向間隔分布。

優選地，所述電積槽的底面上還開設有用于檢修時排空所述電解液的排空孔。

進一步優選地，所述進液總管與所述回液管的直徑均為150mm，每個所述電積槽內的所述進液支管有3根，所有所述進液支管上的所述噴射孔的直徑均為8~10mm。

進一步優選地，所述加熱裝置為設于所述儲液槽內的鈦盤管或蒸汽管。

進一步優選地，進入所述電積槽的所述電解液的溫度控制在50~65℃。

由于上述技術方案的運用，本發明與現有技術相比具有下列優點：本發明的梯形流電積裝置，通過提高電積槽內的循環速度來增加了電積槽內溶液的循環量，減少了濃差極化的現象發生，提高了電流密度，確保了陰極銅的產品質量達到標準要求，同時提高了產品的純度，有效的回收利用了銅精煉后的電解液。

附圖說明

附圖1為本發明的梯形流電積裝置的結構示意圖；

附圖2為附圖1中A處放大圖；

其中：1、儲液槽；2、電積槽；21、固定件；22、回液口；23、排空孔；3、進液總管；4、進液支管；41、噴射孔；5、回液管；6、電解銅添加劑投加裝置；7、加熱裝置；8、過濾裝置；9、濾網。

具體實施方式

下面結合附圖及具體實施例來對本發明的技術方案作進一步的闡述。

參見圖1所示，一種梯形流電積裝置，包括用于儲存銅精煉過程中的電解液的儲液槽1、多個用于對電解液中的銅離子進行電積回收的電積槽2、連接在儲液槽1出液端上的進液總管3、連接在電積槽2出液端與儲液槽1入液端間的回液管5、設于電積槽2內的進液支管4，該進液支管4的管口連接至進液總管3的管出口處。每個電積槽2內的電解液循環速度控制在75~105?L/min。在本實施例中，進液總管3與回液管5均采用了直徑為150mm的PVC管。