[發明專利]具有平臺冷卻布置的渦輪轉子葉片

有效

• 申請號: 201510100246.0
• 申請日: 2015-03-06
• 公開（公告）號: CN104895619B
• 公開（公告）日: 2019-04-23
• 發明（設計）人: B.W.萬塔塞爾;J.R.康諾爾;B.D.路易斯;A.O.本森
• 申請（專利權）人: 通用電氣公司
• 主分類號: F01D5/18
• 分類號: F01D5/18
• 代理公司: 中國專利代理(香港)有限公司 72001
• 代理人: 嚴志軍;周心志

1.一種渦輪轉子葉片中的平臺冷卻布置，所述渦輪轉子葉片包括翼形件與根部之間的界面處的平臺，其中，所述渦輪轉子葉片包括形成于其中的內部冷卻通路，所述內部冷卻通路從所述根部處的與冷卻劑源的連接延伸至所述平臺的近似徑向高度，其中，所述平臺的吸力側包括頂側，所述頂側從所述翼形件周向地延伸到吸力側斜面，所述平臺冷卻布置包括：

給送孔，其從所述吸力側斜面直線延伸至所述內部冷卻通路；和

一個或更多個分支孔，所述分支孔各自從所述給送孔直線延伸至所述吸力側斜面，其中，冷卻劑從所述內部冷卻通路通過所述給送孔流到所述一個或更多個分支孔并且沿所述吸力側斜面離開所述平臺。

2.根據權利要求1所述的平臺冷卻布置，其特征在于，所述一個或更多個分支孔以相同的角度從所述給送孔延伸。

3.根據權利要求2所述的平臺冷卻布置，其特征在于，所述一個或更多個分支孔從所述給送孔垂直地延伸。

4.根據權利要求1所述的平臺冷卻布置，其特征在于，所述給送孔包括插塞，所述插塞布置為接近在所述內部冷卻通路遠側的外端。

5.根據權利要求4所述的平臺冷卻布置，其特征在于，所述插塞包括計量孔，以允許冷卻劑的至少一部分到所述給送孔的外端外的通路，其中，計量孔截面面積小于給送孔截面面積。

6.根據權利要求1所述的平臺冷卻布置，其特征在于，至少一個分支孔從所述給送孔的后緣側延伸，并且至少一個分支孔從所述給送孔的前緣側延伸。

7.根據權利要求1所述的平臺冷卻布置，其特征在于，還包括附加分支孔，其從所述給送孔延伸至所述平臺的前緣。

8.根據權利要求1所述的平臺冷卻布置，其特征在于，還包括附加分支孔，其從所述給送孔延伸至所述平臺的壓力側斜面。

9.根據權利要求1所述的平臺冷卻布置，其特征在于，離開所述分支孔中的至少一個的冷卻劑沖擊鄰近渦輪轉子葉片的壓力側斜面。

10.根據權利要求1所述的平臺冷卻布置，其特征在于，所述渦輪轉子葉片的壓力側斜面上還包括一個或更多個表面特征，所述表面特征擾亂從相鄰渦輪轉子葉片的平臺冷卻布置離開的沖擊冷卻劑。

11.一種渦輪轉子葉片中的平臺冷卻布置，所述渦輪轉子葉片包括翼形件與根部之間的界面處的平臺，其中，所述渦輪轉子葉片包括形成于其中的內部冷卻通路，所述內部冷卻通路從所述根部處的與冷卻劑源的連接延伸至所述平臺的近似徑向高度，其中，所述平臺的吸力側包括頂側，所述頂側從所述翼形件周向地延伸到吸力側斜面，所述平臺冷卻布置包括：

給送孔，其從所述平臺的前緣直線延伸至所述內部冷卻通路；和

一個或更多個分支孔，所述分支孔各自從所述給送孔直線延伸至所述吸力側斜面，其中，冷卻劑從所述內部冷卻通路通過所述給送孔流到所述一個或更多個分支孔并且沿所述吸力側斜面離開所述平臺。

12.一種用于在渦輪轉子葉片中形成平臺冷卻布置的方法，所述方法包括：

提供渦輪轉子葉片，所述渦輪轉子葉片包括翼形件與根部之間的界面處的平臺，其中，所述渦輪轉子葉片包括形成于其中的內部冷卻通路，所述內部冷卻通路從所述根部處的與冷卻劑源的連接延伸至所述平臺的近似徑向高度，其中，所述平臺的吸力側包括頂側，所述頂側從所述翼形件周向地延伸到吸力側斜面；

形成給送孔，所述給送孔從所述吸力側斜面直線延伸至所述內部冷卻通路；和

形成一個或更多個分支孔，所述分支孔各自從所述給送孔直線延伸至所述吸力側斜面，其中，冷卻劑從所述內部冷卻通路通過所述給送孔流到所述一個或更多個分支孔并且沿所述吸力側斜面離開所述平臺。

13.根據權利要求12所述的方法，其特征在于，所述一個或更多個分支孔以相同的角度從所述給送孔延伸。