[發明專利]膽酸酯光酸發生劑和包含該發生劑的光致抗蝕劑在審
| 申請號： | 201510090721.0 | 申請日： | 2010-12-10 |
| 公開（公告）號： | CN104761608A | 公開（公告）日： | 2015-07-08 |
| 發明（設計）人： | E·阿恰達;李明琦;J·瑪蒂亞 | 申請（專利權）人： | 羅門哈斯電子材料有限公司 |
| 主分類號： | C07J9/00 | 分類號： | C07J9/00;C07C381/12;G03F7/004;G03F7/039;G03F7/038;G03F7/00 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 陳哲鋒 |
| 地址： | 美國馬*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 膽酸 酯光酸 發生 包含 光致抗蝕劑 | ||
【權利要求書】：
1.一種光酸發生劑化合物，所述化合物選自：
2.一種光致抗蝕劑組合物，所述組合物包括樹脂組分和權利要求1所述的光酸發生劑化合物。
3.一種形成光致抗蝕劑浮雕圖像的方法，包括：
a)將權利要求2所述的光致抗蝕劑組合物的涂層施加到基底上；
使光致抗蝕劑涂層暴露于形成圖案的激發輻射，以及使暴露的光致抗蝕劑涂層顯影以提供浮雕圖像。
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