[發(fā)明專利]顯示裝置和用于檢測顯示裝置上的表面剪切力的方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201510090015.6
• 申請日: 2015-02-27
• 公開（公告）號: CN104881166B
• 公開（公告）日: 2020-05-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 戴維.M.霍夫曼
• 申請（專利權(quán)）人: 三星顯示有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 弋桂芬

1.一種顯示裝置，包括：

像素陣列，包括多個像素；

可變形層，具有在所述像素上并平行于所述像素陣列的第一表面以及基本上平行于所述第一表面的第二表面；

一個或多個紅外發(fā)射器，用于發(fā)射紅外光到所述可變形層中；

多個紅外探測器，用于檢測紅外光；以及

在所述可變形層處的多個分散的示蹤物，用于使由所述一個或多個紅外發(fā)射器發(fā)射的紅外光朝向所述紅外探測器重定向，并用于響應于在所述第二表面的觸摸點處施加的具有一大小和一方向的剪切力而在所述剪切力的方向上移動，使得紅外光在所述多個紅外探測器中的紅外探測器處的輻照度改變，從而根據(jù)所述紅外光的輻照度確定所述剪切力的大小和方向。

2.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述一個或多個紅外發(fā)射器包括在所述第一表面處且用于朝向所述第二表面發(fā)射紅外光的多個紅外發(fā)射器。

3.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其中每個所述像素包括所述紅外發(fā)射器中的其中一個和所述紅外探測器中的其中一個。

4.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其中所述多個像素包括：

多個第一像素，每個包括所述紅外發(fā)射器中的其中一個；和

多個第二像素，每個包括所述紅外探測器中的其中一個。

5.如權(quán)利要求4所述的顯示裝置，其中所述第二像素比所述第一像素多。

6.如權(quán)利要求5所述的顯示裝置，其中所述第一像素和所述第二像素在整個所述像素陣列規(guī)則地交替。

7.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述顯示裝置根據(jù)所述紅外光的輻照度追蹤移動后的示蹤物的位移以確定所述剪切力的大小和所述剪切力的方向。

8.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中所述顯示裝置根據(jù)所述紅外光的輻照度確定在所述觸摸點周圍的所述示蹤物的密度以確定所述剪切力的大小和所述剪切力的方向。

9.如權(quán)利要求2所述的顯示裝置，其中所述示蹤物包括反射紅外光并允許可見光通過的分色鏡。

10.如權(quán)利要求9所述的顯示裝置，其中所述示蹤物跨所述可變形層的所述第二表面以規(guī)則的間隔被圖案化。

11.如權(quán)利要求1所述的顯示裝置，其中：

所述一個或多個紅外發(fā)射器包括在所述可變形層的邊緣處的紅外發(fā)射器，該紅外發(fā)射器用于基本上平行于所述第一表面地發(fā)射紅外光到所述可變形層中，以及

所述多個示蹤物包括在所述第二表面的多個抑止位置，以朝向所述紅外探測器散射紅外光。

12.如權(quán)利要求11所述的顯示裝置，其中所述抑止位置跨所述可變形層的所述第二表面以規(guī)則的間隔被圖案化。

13.如權(quán)利要求12所述的顯示裝置，其中所述抑止位置包括在所述可變形層處的空腔。

14.如權(quán)利要求12所述的顯示裝置，其中所述抑止位置包括納米顆粒的團簇以允許可見光通過并散射從所述紅外發(fā)射器發(fā)射的紅外光。

15.如權(quán)利要求14所述的顯示裝置，其中所述納米顆粒包括具有硅石芯的銀納米顆粒。

16.如權(quán)利要求11所述的顯示裝置，其中所述顯示裝置根據(jù)所述紅外光的輻照度追蹤移動后的抑止位置的位移以確定所述剪切力的大小和所述剪切力的方向。

17.如權(quán)利要求11所述的顯示裝置，其中所述顯示裝置根據(jù)所述紅外光的輻照度確定在所述觸摸點周圍的所述抑止位置的密度以確定所述剪切力的大小和所述剪切力的方向。