[發明專利]圖像形成方法

有效

• 申請號: 201510089265.8
• 申請日: 2015-02-27
• 公開（公告）號: CN104880921B
• 公開（公告）日: 2017-12-12
• 發明（設計）人: 內野哲;小原慎也;內野泰子;櫻田育子
• 申請（專利權）人: 柯尼卡美能達株式會社
• 主分類號: G03G15/00
• 分類號: G03G15/00;G03G15/02;G03G9/08
• 代理公司: 北京集佳知識產權代理有限公司11227
• 代理人: 苗堃,趙曦

1.一種圖像形成方法，其特征在于，利用調色劑將靜電潛像顯影，該靜電潛像是利用帶電輥使靜電潛像載體的表面帶電、并進行曝光而形成的，

該調色劑至少含有調色劑母體粒子和外添劑微粒，

該調色劑母體粒子具有微區·基體結構，該基體含有具有酸基的乙烯基系聚合物，該微區含有乙烯基系聚合鏈段與結晶性聚酯聚合鏈段鍵合而成的聚合物，

該外添劑微粒含有二氧化硅·聚合物復合體微粒，

使用X射線光電子能譜儀測定在該二氧化硅·聚合物復合體微粒的最表面和距最表面的深度方向3nm以內存在的碳原子、氧原子和硅原子的存在量時的硅原子存在比率至少滿足下述條件A，

條件A：

15.0atm％≤硅原子存在比率({Si/(C+O+Si)}×100)≤30.0atm％。

2.根據權利要求1所述的圖像形成方法，其特征在于，所述二氧化硅·聚合物復合體微粒的個數平均一次粒徑為50～500nm的范圍內。

3.根據權利要求1所述的圖像形成方法，其特征在于，至少使用甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷作為所述二氧化硅·聚合物復合體微粒的疏水劑。

4.根據權利要求1所述的圖像形成方法，其特征在于，至少使用六甲基二硅氮烷作為所述二氧化硅·聚合物復合體微粒的疏水劑。

5.根據權利要求1所述的圖像形成方法，其特征在于，所述二氧化硅·聚合物復合體微粒的二氧化硅部分由膠體二氧化硅微粒形成。

6.根據權利要求1所述的圖像形成方法，其特征在于，所述二氧化硅·聚合物復合體微粒的二氧化硅部分的粒徑為10～70nm的范圍內。

7.根據權利要求1所述的圖像形成方法，其特征在于，所述調色劑母體粒子的個數平均粒徑為4.0～6.8μm的范圍內。

8.根據權利要求1所述的圖像形成方法，其特征在于，所述調色劑母體粒子的平均圓度為0.930～0.965的范圍內。

9.根據權利要求1所述的圖像形成方法，其特征在于，對所述帶電輥施加直流電流和交流電流。

10.根據權利要求1所述的圖像形成方法，其特征在于，所述帶電輥的表面粗糙度Rz為5～10μm的范圍內。