[發(fā)明專利]具有潛在熒光材料的氧醚雙三唑一維銅配合物及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510088223.2 | 申請日: | 2015-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN104610287A | 公開(公告)日: | 2015-05-13 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 王英 | 申請(專利權(quán))人: | 天津師范大學(xué) |
| 主分類號: | C07F1/08 | 分類號: | C07F1/08;C09K11/06 |
| 代理公司: | 天津市杰盈專利代理有限公司 12207 | 代理人: | 朱紅星 |
| 地址: | 300387 *** | 國省代碼: | 天津;12 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 潛在 熒光 材料 氧醚雙三唑一維銅 配合 及其 制備 方法 | ||
1.氧醚雙三唑一維銅配合物{[Cu(L)2Br2]·CH2Br2}?(1)的結(jié)構(gòu)基元,其中L?=?1-(4-(4-(1H-1,2,4-三氮唑-1-基)苯氧基)苯基)-1H-1,2,4-三氮唑。
2.權(quán)利要求1所述氧醚雙三唑一維銅配合物的單晶,其特征在于該單晶結(jié)構(gòu)采用APEX?II?CCD單晶衍射儀,使用經(jīng)過石墨單色化的Mokα射線(λ?=?0.71073??)為入射輻射,以ω-2θ掃描方式收集衍射點,經(jīng)過最小二乘法修正得到晶胞參數(shù),從差值傅立葉電子密度圖利用軟件解出單晶數(shù)據(jù):
表1.?配合物1的晶體學(xué)數(shù)據(jù)
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3.權(quán)利要求1所述氧醚雙三唑一維銅配合物{[Cu(L)2Br2]·CH2Br2}?(1)?(L?=?1-(4-(4-(1H-1,2,4-三氮唑-1-基)苯氧基)苯基)-1H-1,2,4-三氮唑)的制備方法,其特征在于它是采用“常溫揮發(fā)法”,即L和CuBr2在CH2Br2、CH3OH和水的混合溶劑中攪拌半小時后過濾,濾液常溫揮發(fā)兩周后以制備該配合物
?
L。
4.權(quán)利要求1所述氧醚雙三唑一維銅配合物{[Cu(L)2Br2]·CH2Br2}?(1)?(L?=?1-(4-(4-(1H-1,2,4-三氮唑-1-基)苯氧基)苯基)-1H-1,2,4-三氮唑)作為潛在的熒光材料方面的應(yīng)用。
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