[發(fā)明專利]混合型三維印錄存儲器在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510088190.1 | 申請日: | 2015-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN104979352A | 公開(公告)日: | 2015-10-14 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 張國飆 | 申請(專利權(quán))人: | 成都海存艾匹科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L27/112 | 分類號: | H01L27/112 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 610041 四川*** | 國省代碼: | 四川;51 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 混合 三維 存儲器 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及集成電路存儲器領(lǐng)域,更確切地說,涉及三維存儲器(3D-M)。
背景技術(shù)
三維印錄存儲器(3D-P)—也被稱為三維掩膜編程只讀存儲器(3D-MPROM)—是一種單體(monolithic)半導(dǎo)體存儲器,它含有多個相互堆疊的存儲元。美國專利5,835,396披露了一種3D-P?(即3D-MPROM)。它含有一襯底電路0K及堆疊在其上的存儲層10、20(圖1A)。襯底電路0K含有存儲層10、20的解碼器14、24。一層平面化的絕緣介質(zhì)0d覆蓋襯底電路0K,第一存儲層10堆疊在絕緣介質(zhì)層0d上,第二存儲層20堆疊在第一存儲層10上。第一存儲層10通過接觸通道孔13a與襯底電路0K耦合,第二存儲層20通過接觸通道孔23a與襯底電路0K耦合。
每個存儲層(如10、20)含有至少一個存儲陣列(如100A、200A)。每個存儲陣列(如100A)含有多條頂?shù)刂肪€(即y地址線,如12a-12d、22a-22d)、多條底地址線(即x地址線,如11a、21a)和多個位于頂?shù)刂肪€和底地址線交叉處的存儲元(如1aa-1ad、2aa-2ad)。在每個存儲陣列(如100A)中,所有的地址線(如11a、12a-12d)都是連續(xù)的。
一個3D-P芯片1000含有多個存儲塊1aa、1ab…?1dd(圖1B)。圖1A中顯示的結(jié)構(gòu)是存儲塊1aa的一部分。在存儲塊1aa的最高存儲層20中,所有的地址線21a、22a-22d都是連續(xù)的、并在存儲塊1aa的邊緣或其附近截止。在現(xiàn)有技術(shù)中,3D-P芯片1000中所有存儲塊(如1aa-1dd)都具有相同大小;在每個存儲塊100中,所有存儲層(如10、20)中的存儲陣列(如100A、200A)也具有相同大小。
隨著3D-P存儲內(nèi)容的增加(3D-P的單芯存儲容量可達(dá)到1Tb),3D-P中將存儲各種內(nèi)容,包括對讀取速度要求不高的多媒體內(nèi)容(如數(shù)碼書籍、數(shù)碼地圖、音樂、電影、和/或視頻等)和對讀取速度要求較高的軟游內(nèi)容(如操作系統(tǒng)、軟件、和/或游戲等)。現(xiàn)有技術(shù)將這些對速度要求各自不同的內(nèi)容集成在同一3D-P芯片上,且采用相同大小的存儲塊和存儲陣列。這會導(dǎo)致諸多問題:如果存儲陣列太小,較低的陣列效率導(dǎo)致芯片成本過高;如果存儲陣列太大,較慢的讀取速度不能滿足軟游內(nèi)容對速度的要求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的主要目的是優(yōu)化三維印錄存儲器(3D-P)的陣列效率和讀取速度。
為了實(shí)現(xiàn)這些以及別的目的,本發(fā)明提出一種混合型三維印錄存儲器(3D-P)。它充分利用了存儲在3D-P中內(nèi)容已知的事實(shí),根據(jù)每個內(nèi)容所需的讀取速度來調(diào)整存儲該內(nèi)容之存儲陣列的大小。不需要高速讀取的多媒體內(nèi)容(如數(shù)碼書籍、數(shù)碼地圖、音樂、電影、和/或視頻等)存儲在大存儲塊和/或大存儲陣列中,需要高速讀取的軟游內(nèi)容(如操作系統(tǒng)、軟件、和/或游戲等)存儲在小存儲塊和/或小存儲陣列中。在一個實(shí)施例中,這些具有不同大小的存儲塊可以肩并肩地排列在一起。在另一實(shí)施例中,一個大存儲陣列下面可以含有多個肩并肩排列的小存儲陣列。
相應(yīng)地,本發(fā)明提出一種混合型三維印錄存儲器(3D-P),其特征在于包括:一第一存儲塊(1a),該第一存儲塊(1a)存儲多媒體內(nèi)容;一第二存儲塊(1ac),該第二存儲塊(1ac)存儲軟游內(nèi)容;該第一存儲塊(1a)比該第二存儲塊(1ac)大。
本發(fā)明還提出一種混合型三維印錄存儲器(3D-P),其特征在于包括:一第一存儲陣列(200A),該第一存儲陣列(200A)存儲多媒體內(nèi)容;一第二存儲陣列(100A),該第二存儲陣列(100A)存儲軟游內(nèi)容;該第一存儲陣列(200A)比該第二存儲塊(100A)大。
附圖說明
圖1A是一種現(xiàn)有技術(shù)中三維印錄存儲器(3D-P)的截面圖;圖1B是一現(xiàn)有技術(shù)中3D-P的芯片示意圖。
圖2顯示陣列效率、讀取速度與陣列大小之間的關(guān)系。
圖3是第一種混合型3D-P的芯片示意圖。
圖4是第二種混合型3D-P的芯片截面圖。
注意到,這些附圖僅是概要圖,它們不按比例繪圖。為了顯眼和方便起見,圖中的部分尺寸和結(jié)構(gòu)可能做了放大或縮小。在不同實(shí)施例中,相同的符號一般表示對應(yīng)或類似的結(jié)構(gòu)。
具體實(shí)施方式
圖2顯示陣列效率、讀取速度與陣列大小之間的關(guān)系。對于小存儲陣列,由于每個存儲陣列的周邊電路大小基本固定,故陣列效率較低。隨著存儲陣列的變大,雖然陣列效率增加了,但是由于寄生電阻和電容增加,讀取速度降低。
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- 專利分類
H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L27-00 由在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的多個半導(dǎo)體或其他固態(tài)組件組成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共絕緣襯底上形成的無源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有專門適用于整流、振蕩、放大或切換的半導(dǎo)體組件并且至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的;包括至少有一個躍變勢壘或者表面勢壘的無源集成電路單元的
H01L27-14 . 包括有對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射或者微粒子輻射并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或適用于通過這樣的輻射控制電能的半導(dǎo)體組件的
H01L27-15 .包括專門適用于光發(fā)射并且包括至少有一個電位躍變勢壘或者表面勢壘的半導(dǎo)體組件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料結(jié)點(diǎn)的熱電元件的;包括有熱磁組件的
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