[發明專利]具有潛在熒光材料的四苯乙烯四三唑鎘配合物及其制備方法

在審

• 申請號: 201510087998.8
• 申請日: 2015-02-26
• 公開（公告）號: CN104628752A
• 公開（公告）日: 2015-05-20
• 發明（設計）人: 王英
• 申請（專利權）人: 天津師范大學
• 主分類號: C07F3/08
• 分類號: C07F3/08;C09K11/06
• 代理公司: 天津市杰盈專利代理有限公司 12207
• 代理人: 朱紅星

1.四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)_0.5(ipa)(H₂O)]·2H₂O}_n?(1)的結構基元如圖1所示：

????L?=?1,1,2,2-四[4-(1H-1,2,4-三氮唑-1-基)苯基]乙烯，ipa?=?間苯二甲酸。

2.權利要求1所述四苯乙烯四三唑鎘配合物的單晶，其特征在于該單晶結構采用APEX?II?CCD單晶衍射儀，使用經過石墨單色化的Mokα射線(λ?=?0.71073??)為入射輻射，以ω-2θ掃描方式收集衍射點，經過最小二乘法修正得到晶胞參數，從差值傅立葉電子密度圖利用軟件解出單晶數據：

表1.?配合物1的晶體學數據

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3.權利要求1所述四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)_0.5(ipa)(H₂O)]·2H₂O}_n?(1)?(L?=?1,1,2,2-四[4-(1H-1,2,4-三氮唑-1-基)苯基]乙烯，ipa?=?間苯二甲酸)的制備方法，其特征在于它是采用“溶劑熱法”，即L、ipa、Cd(NO₃)₂·6H₂O、水和DMF在90?^oC下反應三天后緩慢降至室溫以制備該配合物

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???????????????????????L???????????????????????????????????????????????????ipa。

4.權利要求1所述四苯乙烯四三唑鎘配合物{[Cd(L)_0.5(ipa)(H₂O)]·2H₂O}_n?(1)?(L?=?1,1,2,2-四[4-(1H-1,2,4-三氮唑-1-基)苯基]乙烯，ipa?=?間苯二甲酸)作為潛在的熒光材料方面的應用。