[發(fā)明專利]限定平衡室的閥托架元件有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510087116.8 | 申請日： | 2015-02-25 |
| 公開（公告）號： | CN104864173B | 公開（公告）日： | 2019-01-11 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | A.喬扈里;G.F.小福爾特;S.K.瓦蘇德文 | 申請（專利權(quán)）人： | 通用電氣公司 |
| 主分類號： | F16K51/00 | 分類號： | F16K51/00 |
| 代理公司： | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 劉林華;肖日松 |
| 地址： | 美國*** | 國省代碼： | 美國;US |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 限定 平衡 托架 元件 | ||
1.一種閥的托架元件，其能夠相對所述閥的閥座移動，并且包括：
平衡室壁，其與中心體限定平衡室，所述中心體相對所述閥座局部地固定；
上頭部；
平衡室保持器，其具有與所述上頭部的熱膨脹系數(shù)相配合的熱膨脹系數(shù)(CTE)；以及
緊固元件，其布置為將所述平衡室保持器緊固至所述上頭部，
所述平衡室保持器布置在所述中心體和所述平衡室壁之間，并且構(gòu)造為阻止熱負(fù)載從所述平衡室壁傳遞至所述緊固元件。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的托架元件，其特征在于，所述平衡室保持器包括鍛造鉻12材料。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的托架元件，其特征在于，在所述上頭部和所述平衡室保持器之間提供間隙。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的托架元件，其特征在于，所述平衡室壁包括外凸緣，并且所述平衡室保持器包括下部，在變化的操作條件期間，所述下部鄰接并干涉所述外凸緣。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的托架元件，其特征在于，所述平衡室壁包括外凸緣，并且所述平衡室保持器包括下部，所述下部不論其熱膨脹或收縮均鄰接并干涉所述外凸緣。
6.一種功率設(shè)備閥，包括能夠相對閥座移動的托架元件，所述托架元件包括：
平衡室壁，其與中心體限定平衡室，所述中心體相對所述閥座局部地固定；
上頭部；
平衡室保持器，其具有與所述上頭部的熱膨脹系數(shù)相配合的熱膨脹系數(shù)(CTE)；以及
緊固元件，其布置為將所述平衡室保持器緊固至所述上頭部，
所述平衡室保持器布置在所述中心體和所述平衡室壁之間，并且構(gòu)造為阻止熱負(fù)載從所述平衡室壁傳遞至所述緊固元件。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的功率設(shè)備閥，其特征在于，所述平衡室保持器包括鍛造鉻12材料。
8.根據(jù)權(quán)利要求6所述的功率設(shè)備閥，其特征在于，在所述上頭部和所述平衡室保持器之間提供間隙。
9.根據(jù)權(quán)利要求6所述的功率設(shè)備閥，其特征在于，所述平衡室壁包括外凸緣，并且所述平衡室保持器包括下部，在變化的操作條件期間，所述下部鄰接并干涉所述外凸緣。
10.根據(jù)權(quán)利要求6所述的功率設(shè)備閥，其特征在于，所述平衡室壁包括外凸緣，并且所述平衡室保持器包括下部，所述下部不論其熱膨脹或收縮均鄰接并干涉所述外凸緣。
11. 一種功率設(shè)備，包括鍋爐元件、蒸汽渦輪、管道、以及沿著所述管道布置的閥，所述管道布置為從所述鍋爐元件且朝向所述蒸汽渦輪傳輸蒸汽，所述閥包括：
閥座；以及
托架元件，其能夠相對所述閥座移動來打開或閉合所述閥，所述托架元件包括：
平衡室壁，其與中心體限定平衡室，所述中心體相對所述閥座局部地固定；
上頭部；
平衡室保持器，其具有與所述上頭部的熱膨脹系數(shù)相配合的熱膨脹系數(shù)(CTE)；以及
緊固元件，其布置為將所述平衡室保持器緊固至所述上頭部，
所述平衡室保持器布置在所述中心體和所述平衡室壁之間，并且構(gòu)造為阻止熱負(fù)載從所述平衡室壁傳遞至所述緊固元件。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的功率設(shè)備，其特征在于，所述管道包括IP或HP管道。
13.根據(jù)權(quán)利要求11所述的功率設(shè)備，其特征在于，所述管道布置為朝向所述蒸汽渦輪的IP或HP區(qū)段傳輸蒸汽。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的功率設(shè)備，其特征在于，所述閥包括再加熱閥。
15.根據(jù)權(quán)利要求11所述的功率設(shè)備，其特征在于，所述平衡室保持器包括鍛造鉻12材料。
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