[發明專利]一種綜合人工表面等離激元器件的波導和基片集成波導的濾波器有效
| 申請號： | 201510084784.5 | 申請日： | 2015-02-16 |
| 公開（公告）號： | CN104767009B | 公開（公告）日： | 2017-12-05 |
| 發明（設計）人： | 崔鐵軍;張茜;張浩馳;范逸風 | 申請（專利權）人： | 東南大學 |
| 主分類號： | H01P1/20 | 分類號： | H01P1/20;H01P1/203 |
| 代理公司： | 南京瑞弘專利商標事務所(普通合伙)32249 | 代理人： | 楊曉玲 |
| 地址： | 211189 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 綜合 人工 表面 元器件 波導 集成 濾波器 | ||
【權利要求書】：
1.一種綜合人工表面等離激元器件的波導和基片集成波導的濾波器，其特征在于：包括人工表面等離激元波導和基片集成波導，且人工表面等離激元波導與基片集成波導、人工表面等離激元波導與端口、基片集成波導與端口均通過微帶線轉換器連接；
所述基片集成波導包括第一介質基片，所述第一介質基片的上下表面均設置有第一金屬化層，同時所述第一介質基片沿人工表面等離激元波導與基片集成波導的中心線對稱設置有兩排金屬化過孔；
所述人工表面等離激元波導包括第二介質基片，所述第二介質基片的上下表面均設置有第二金屬化層，所述第二金屬化層上設置有一個以上的金屬凹槽，且所述金屬凹槽的深度從兩邊向中間依次遞增排列，且金屬凹槽的深度遞增直至與第二金屬化層厚度相同，同時位于第二介質基片上下兩個表面上的第二金屬化層的金屬凹槽開口方向相反。
2.根據權利要求1所述的一種綜合人工表面等離激元器件的波導和基片集成波導的濾波器，其特征在于：同排的金屬化過孔之間的間距相同；金屬凹槽之間間距相同。
3.根據權利要求1所述的一種綜合人工表面等離激元器件的波導和基片集成波導的濾波器，其特征在于：所述微帶轉換器的主體是一段線性的微帶漸變線，此微帶漸變線可實現波導與50歐姆微帶線之間的阻抗變換。
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