[發明專利]一種用于密閉空間干霧消毒滅菌方法

有效

• 申請號: 201510082908.6
• 申請日: 2015-02-16
• 公開（公告）號: CN104587511B
• 公開（公告）日: 2021-11-02
• 發明（設計）人: 師強;吳文俊
• 申請（專利權）人: 蘇州倍愛尼生物技術有限公司
• 主分類號: A61L9/14
• 分類號: A61L9/14;A61L2/22
• 代理公司: 北京睿智保誠專利代理事務所(普通合伙) 11732
• 代理人: 周新楣

1.一種用于密閉空間干霧消毒滅菌方法，其特征在于，包括：消毒劑或消毒溶液進入第一通道；壓縮氣體進入第二通道，所述第一通道從霧化腔室的頂部進入所述霧化腔室的內部，所述第二通道通過所述霧化腔室的外壁進入所述霧化腔室的內部，所述第二通道的中軸線指向所述霧化腔室的中軸線或為偏心指向，所述霧化腔室為頂部與所述第一通道相聯，底部具有與外部相通的開口，通過所述第一通道進入所述霧化腔室的消毒劑或消毒溶液與通過所述第二通道進入所述霧化腔室的高速氣體在所述霧化腔室內碰撞霧化，并由所述霧化腔室的開口噴出；所述干霧消毒滅菌方法還包括第二路送風系統，所述第二路送風系統包括觸媒、風機，在消毒行為結束或進行過程中，啟動所述第二路送風系統進行環境中消毒劑的殘留濃度的清除；所述第一通道、所述第二通道、所述霧化腔室形成噴頭，所述第一通道沿著所述霧化腔室的中軸線從所述霧化腔室的頂部與所述霧化腔室聯通，所述第二通道穿過所述霧化腔室的圓周外壁與所述霧化腔室內部聯通，消毒劑或消毒溶液由液體泵引入設置在所述噴頭中的所述第一通道并進入所述霧化腔室；氣體通過高速風機形成壓縮氣體并通過穿透所述噴頭的所述圓周外壁的所述第二通道進入所述噴頭的所述霧化腔室，所述消毒劑或消毒溶液通過所述第一通道進入所述霧化腔室，所述消毒劑或消毒溶液和所述氣體在所述霧化腔室內碰撞霧化，并由所述霧化腔室的所述開口噴出；

其中第二通道為4個或6個等徑孔，壓縮氣體通過第二通道導入噴頭的所述霧化腔室內，在霧化腔室內形成強渦流，第一通道中軸線穿過位于渦流的中心部位，第二通道中軸線與第一通道的中軸線呈偏心布置或向心布置；第一通道直徑與霧化腔室橫截面直徑比值在1-4：10之間。

2.根據權利要求1中所述的用于密閉空間干霧消毒滅菌方法，其特征在于，所述干霧消毒滅菌方法還包括：

當所述消毒劑或消毒溶液被引入所述第一通道之前，進行流量調節。

3.根據權利要求1中所述的用于密閉空間干霧消毒滅菌方法，其特征在于，所述氣體噴出噴頭的噴射速度為20-100m/s，所述消毒劑或消毒溶液的噴射量為0.5-2升/小時。

4.根據權利要求1中所述的用于密閉空間干霧消毒滅菌方法，其特征在于，所述干霧消毒滅菌方法中的所述液體泵或所述高速風機的運行通過控制單元自動控制。

5.根據權利要求4中所述的用于密閉空間干霧消毒滅菌方法，其特征在于，所述控制單元為PLC或單片機。

6.根據權利要求1中所述的用于密閉空間干霧消毒滅菌方法，其特征在于，所述干霧消毒滅菌方法通過無線網絡或GSM網絡進行信號傳遞進行自動控制。

7.根據權利要求1中所述的用于密閉空間干霧消毒滅菌方法，其特征在于，所述第二通道數量為大于等于1。

8.根據權利要求7中所述的用于密閉空間干霧消毒滅菌方法，其特征在于，多個所述第二通道的中軸線處于同一平面形成向心結構或偏心結構，或者同時向下或向上形成具有錐度的形狀，或者部分向上部分向下的交錯結構，或者上述幾種結構的組合。

9.根據權利要求8中所述的用于密閉空間干霧消毒滅菌方法，其特征在于，所述第二通道為4個或6個等徑孔，所述壓縮氣體通過所述第二通道導入所述噴頭的所述霧化腔室內，在所述霧化腔室內形成強渦流；所述第一通道中軸線穿過位于渦流的中心部位；所述第二通道中軸線與所述第一通道的中軸線呈偏心布置或向心布置，所述第二通道中軸線處于同一個平面或相互交錯或同時向下或向下形成具有錐度的形狀。

10.根據權利要求8中所述的用于密閉空間干霧消毒滅菌方法，其特征在于，所述交錯結構形成的所述第二通道中軸線與所述霧化腔室橫截面之間的夾角為大于0度小于等于15度。