[發明專利]一種微納米衍射防偽絲線的制備方法

有效

• 申請號: 201510082843.5
• 申請日: 2015-02-12
• 公開（公告）號: CN104700715B
• 公開（公告）日: 2017-09-05
• 發明（設計）人: 桑建新
• 申請（專利權）人: 蘇州印象鐳射科技有限公司
• 主分類號: G09F3/02
• 分類號: G09F3/02;B41M3/14
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種微納米衍射防偽絲線的制備方法，所述微納米衍射防偽絲線，包括PET基材層(1)、涂布在所述PET基材層(1)任一表面的高分子保護層(4)、嵌設于所述高分子保護層(4)內且底面與所述PET基材層(1)相接觸的全息信息層(2)以及嵌設于所述高分子保護層(4)內且形成于所述全息信息層(2)上的金屬鋁層(3)，所述金屬鋁層(3)上表面形成有微納米衍射光柵，所述微納米衍射防偽絲線的寬度≤0.8毫米；其特征在于，它包括以下步驟：

(a)利用電腦軟件設計微納米衍射光柵微結構圖；

(b)將設計好的微納米衍射光柵微結構圖對應記錄至載體上，隨后進行顯影；

(c)在載體表面進行銀鏡反應，形成金屬化層；

(d)在金屬鋁層表面形成與載體表面對應的金屬化鏡像；

(e)對金屬鋁層進行裁邊，隨后將其壓制在PET基材層上并且形成金屬化鏡像的一面朝外；

(f)定點在金屬鋁層表面印刷熒光油墨，烘干形成防偽圖案；

(g)在金屬鋁層表面涂布刻蝕液形成與防偽圖案相對應的缺陷，烘干；

(h)在PET基材層表面涂布高分子材料使其覆蓋熒光油墨，固化后進行分切并卷繞收集。