[發明專利]一種光罩、其制作方法及基板圖案的制作方法有效
| 申請號: | 201510078816.0 | 申請日: | 2015-02-13 |
| 公開(公告)號: | CN104597711B | 公開(公告)日: | 2021-05-28 |
| 發明(設計)人: | 劉曉敏;張龍;周婷;沈柏平 | 申請(專利權)人: | 廈門天馬微電子有限公司;天馬微電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G03F1/76 | 分類號: | G03F1/76;G03F1/50 |
| 代理公司: | 北京品源專利代理有限公司 11332 | 代理人: | 孟金喆 |
| 地址: | 361000 福建*** | 國省代碼: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 制作方法 圖案 | ||
1.一種光罩的制作方法,其特征在于,包括如下特征:
提供一基材;
在所述基材上形成有機膜層,該光罩具有第一區域和第二區域,其中,所述有機膜層在紫外偏振光的照射下,能夠定向排列;
提供第一掩模板,所述第一掩模板暴露出所述光罩的第一區域,遮擋所述第二區域,且向所述第一區域照射第一偏振軸方向的偏振紫外光;
將光罩進行旋轉;
提供第二掩模板,所述第二掩模板暴露出所述第二區域,遮擋所述第一區域,向所述第二區域照射所述第一偏振軸方向的偏振紫外光;
其中,所述光罩的第一區域和第二區域的偏振軸方向具有夾角,所述第一區域和所述第二區域分別在同一所述有機膜層中形成,且所述第一區域和所述第二區域是通過所述第一偏振軸方向的紫外偏振光照射得到的;
所述第一偏振軸方向的偏振紫外光是通過采用將紫外光透過一金屬柵得到。
2.如權利要求1所述的制作方法,其特征在于,所述基材上形成有機膜的步驟包括:在所述基材上涂布一層摻雜有二色性染料的聚酰亞胺前驅物。
3.如權利要求2所述的制作方法,其特征在于,所述二色性染料為偶氮型染料、蒽醌型染料、聯苯型染料、三苯二嗪及衍生物型染料、單甲川和多甲川型染料或聚環型染料。
4.如權利要求1所述的制作方法,其特征在于,在所述向所述第一區域照射第一偏振軸方向的偏振紫外光的步驟之前,還包括對有機膜層的預烘干處理,以及在所述向所述第一區域照射第一偏振軸方向的偏振紫外光的步驟之后,還包括對有機膜層烘干處理后固化成型。
5.根據權利要求4所述的制作方法,其特征在于,所述預烘干處理的溫度為10℃-30℃,進行第一偏振軸方向的偏振紫外光照射時所述偏振紫外光的能量為800mj-1000mj,所述烘干處理的溫度為90℃-120℃,時間為90S-120S,所述固化的溫度為210℃-230℃,時間為20min-50min。
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G03F 圖紋面的照相制版工藝,例如,印刷工藝、半導體器件的加工工藝;其所用材料;其所用原版;其所用專用設備
G03F1-00 用于圖紋面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其專門適用于此的容器;其制備
G03F1-20 .用于通過帶電粒子束(CPB)輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如通過電子束;其制備
G03F1-22 .用于通過100nm或更短波長輻照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射線掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制備
G03F1-36 .具有臨近校正特征的掩膜;其制備,例如光學臨近校正(OPC)設計工藝
G03F1-38 .具有輔助特征的掩膜,例如用于校準或測試的特殊涂層或標記;其制備





