[發(fā)明專利]用于向前進的基底上按圖案施涂粘合劑的方法和設備有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510076745.0 | 申請日: | 2011-04-20 |
| 公開(公告)號: | CN104720981B | 公開(公告)日: | 2018-05-04 |
| 發(fā)明(設計)人: | D.I.布朗;J.L.格羅爾梅斯 | 申請(專利權)人: | 寶潔公司 |
| 主分類號: | A61F13/15 | 分類號: | A61F13/15 |
| 代理公司: | 北京市柳沈律師事務所11105 | 代理人: | 胡昊明 |
| 地址: | 美國俄亥俄*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 用于 前進 基底 圖案 粘合劑 方法 設備 | ||
本申請是申請日為2011年4月20日、申請?zhí)枮?01180022407.9、發(fā)明名稱為“用于向前進的基底上按圖案施涂粘合劑的方法和設備”的發(fā)明專利申請的分案申請。
發(fā)明領域
本公開涉及利用用于制造制品的連續(xù)基底的方法和設備。更具體地講,本公開涉及用于向前進的基底上施涂粘稠流體諸如粘合劑的方法和設備。
發(fā)明背景
沿組裝線,可通過將各組件添加到前進的連續(xù)材料纖維網(wǎng)上并且以其他方式修改前進的連續(xù)材料纖維網(wǎng)來組裝各種類型的制品例如尿布和其他吸收制品。例如,在一些工藝中,前進的材料纖維網(wǎng)是與其它前進的材料纖維網(wǎng)相組合的。在其它實例中,從前進的材料纖維網(wǎng)產(chǎn)生的單個組件與前進的材料纖維網(wǎng)相組合,然后所述前進的纖維網(wǎng)繼而與其它前進的材料纖維網(wǎng)相組合。用來制造尿布的材料纖維網(wǎng)和組件部件可包括:底片、頂片、吸收芯、前耳片和/或后耳片、扣件組件、以及各種類型的彈性纖維網(wǎng)和組件諸如腿彈性部件、阻擋腿箍彈性部件和腰彈性部件。在裝配好了所期望的組件部件之后,使前進的纖維網(wǎng)和組件部件經(jīng)受最終刀切以將該纖維網(wǎng)分離成離散的尿布或其它吸收制品。然后也可折疊和包裝這些離散的尿布或吸收制品。
各種方法和設備可用于將不同的組件連接到前進的纖維網(wǎng)和/或以其他方式修改前進的纖維網(wǎng)。例如,一些生產(chǎn)操作被構造成向前進的纖維網(wǎng)上施涂相對高粘度的流體諸如熱熔融粘合劑。在某些情況下,這些生產(chǎn)操作被構造成以預定圖案向前進的纖維網(wǎng)上施涂熱熔融粘合劑。這些操作可包括使用本領域所廣泛描述的以下系統(tǒng)和方法:諸如狹槽沖模涂覆、直接凹版印刷、凹版膠印和逆轉凹印輥涂方法。然而,當前用于向前進的基底上施涂圖案化粘合劑的系統(tǒng)和方法可具有某些限制。
例如,在制造吸收制品諸如女性衛(wèi)生護墊、嬰兒尿布、和成人失禁襯墊的過程中,使用凹面涂覆方法可遇到如下困擾:從要涂覆的基底上分離的纖維會污染壓印滾筒。與凹印腔體和不完全流體轉移相關的一些問題描述于例如美國專利7,611,582 B2和6,003,513中。在某些情況下,在制造吸收產(chǎn)品的過程中,可將狹槽沖模涂覆用于對纖維網(wǎng)的圖案化涂覆。在狹槽沖模轉移方法中使用梳墊片能夠在橫向于纖維網(wǎng)行進方向的軸線上提供高分辨率和流體向接納基底的精確轉移。此類狹槽轉移工藝也可被構造成具有電動氣動開關閥以間歇地將粘合劑轉移到前進的基底上。然而,流體向前進的基底上的間歇轉移的品質和精度可受到開關閥的通/斷循環(huán)速度的限制,所述開關閥用來中斷流體向流體施用裝置的狹槽沖模的流動。因此,隨著纖維網(wǎng)加工速度的增加,當前狹槽沖模涂覆方法在纖維網(wǎng)行進方向上獲得通/斷涂覆圖案的高分辯率的能力會減小。
發(fā)明概述
本公開的各方面涉及用于向前進的基底上施涂流體的方法和設備。本文所公開的設備和方法的特定實施方案施涂粘稠流體諸如粘合劑,并且在一些實施方案中,將粘合劑以預定圖案施涂到前進的基底上。流體施涂設備可包括狹槽沖模施用裝置和基底載運器(substrate carrier)。狹槽沖模施用裝置可包括狹槽開口、第一邊緣(lip)和第二邊緣,狹槽開口定位在第一邊緣和第二邊緣之間。并且基底載運器可包括一個或多個圖案元件,并且可適于使基底前進經(jīng)過狹槽沖模施用裝置,其間狹槽沖模施用裝置向基底上排放粘合劑。在操作中,當基底的第一表面設置在基底載運器上時,基底載運器使基底的第二表面前進經(jīng)過狹槽沖模施用裝置的狹槽開口。繼而,基底在狹槽沖模施用裝置和圖案元件的圖案表面之間受到間歇壓縮。當基底被間歇壓縮時,從狹槽沖模施用裝置排放出的粘合劑在如下區(qū)域中被施涂到前進的基底的第二表面上,所述區(qū)域具有基本上與圖案表面所限定的形狀相同的形狀。
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