[發(fā)明專利]具有量子阱結(jié)構(gòu)的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池及其制造方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510076531.3 | 申請日: | 2015-02-13 |
| 公開(公告)號: | CN104821344A | 公開(公告)日: | 2015-08-05 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 李廷凱;李晴風(fēng);鐘真 | 申請(專利權(quán))人: | 湖南共創(chuàng)光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/0749 | 分類號: | H01L31/0749;H01L31/0352;H01L31/18 |
| 代理公司: | 長沙正奇專利事務(wù)所有限責(zé)任公司 43113 | 代理人: | 馬強(qiáng);劉佳芳 |
| 地址: | 421001 湖南省衡*** | 國省代碼: | 湖南;43 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 量子 結(jié)構(gòu) 銅銦鎵硒 薄膜 太陽能電池 及其 制造 方法 | ||
1.一種具有量子阱結(jié)構(gòu)的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,包括由CIGS吸收層和CdS緩沖層所形成的pn結(jié),其特征是,所述銅銦鎵硒薄膜太陽能電池的pn結(jié)中的CIGS吸收層包括由多個周期所形成的量子阱結(jié)構(gòu),其中一個周期包括晶體結(jié)構(gòu)相同而能隙不同的上下兩層,上層為高能隙層,下層為低能隙層;所述高能隙層為能隙在1-1.65eV之間的摻雜或者非摻雜的Cuy(In1-xGax)Se2層,所述低能隙層為能隙在1-1.65eV之間的摻雜或者非摻雜的Cuy(In1-xGax)Se2層,其中0≤x≤1,0≤y≤1,通過改變x和y的數(shù)值調(diào)整CIGS吸收層的能隙大小。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述具有量子阱結(jié)構(gòu)的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,其特征是,所述高能隙層和低能隙層均為Na摻雜的Cuy(In1-xGax)Se2層,Na的原子摻雜濃度在0.05%-2%之間,且所述高能隙層和低能隙層Na的原子摻雜濃度不同。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述具有量子阱結(jié)構(gòu)的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,其特征是,所述量子阱結(jié)構(gòu)的勢壘高度通過組成量子阱結(jié)構(gòu)材料的能隙差來調(diào)節(jié),能隙差為0.1–0.5eV。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述具有量子阱結(jié)構(gòu)的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,其特征是,所述量子阱結(jié)構(gòu)的勢壘寬度通過高能隙層和低能隙層的厚度為調(diào)節(jié),所述高能隙層的厚度為1-10nm,所述低能隙層的厚度為10–100nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述具有量子阱結(jié)構(gòu)的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,其特征是,所述CIGS吸收層包括由5–20個周期所形成的量子阱結(jié)構(gòu)。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述具有量子阱結(jié)構(gòu)的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池,其特征是,所述具有量子阱結(jié)構(gòu)的CIGS吸收層厚度為1-4μm。
7.權(quán)利要求1-6之一所述具有量子阱結(jié)構(gòu)的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池的制備方法,其特征是,所述具有量子阱結(jié)構(gòu)的CIGS吸收層采用共蒸方法制備,具體工藝控制參數(shù)包括:將基板裝載在沉積室后,在380℃-420℃的溫度下,在CO、CO2或H2的氣氛下,預(yù)處理15-20分鐘;冷卻到150℃-200℃時,反應(yīng)室的真空度抽到0.01-0.03乇的壓力,然后通入氦氣,達(dá)到10-20乇的壓力和200℃時,開始鍍緩沖層薄膜,然后基板溫度升到為600℃-650℃,控制Cu、In、Ga、Se的石墨舟蒸發(fā)源溫度分別為Cu:1200-1700℃,In:900-1200℃,Ga:800-1000℃和Se:300-500℃來制備銅銦鎵硒量子阱結(jié)構(gòu),每鍍完一層膜,用干燥的氮氣去除松散附著的氧化物或或銅銦鎵硒微粒。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述具有量子阱結(jié)構(gòu)的銅銦鎵硒薄膜太陽能電池的制備方法,其特征是,所述具有量子阱結(jié)構(gòu)的CIGS吸收層采用共蒸方法來進(jìn)行鈉的摻雜,具體工藝控制參數(shù)包括:采用的鈉源為NaF、Na2Se和Na2S,控制NaF共蒸溫度800-1000℃,控制Na2Se共蒸溫度700-1000℃,控制Na2S共蒸溫度1000-1200℃,控制Na摻雜濃度為0.05%到0.2%原子濃度。
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H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的
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