[發(fā)明專利]一種圖形晶圓無(wú)損傷清洗裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201510076158.1 | 申請(qǐng)日: | 2015-02-12 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104646350B | 公開(公告)日: | 2016-10-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 滕宇;吳儀 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 北京七星華創(chuàng)電子股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B08B3/12 | 分類號(hào): | B08B3/12;B08B3/08 |
| 代理公司: | 上海天辰知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人: | 陶金龍;張磊 |
| 地址: | 100016 *** | 國(guó)省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 圖形 晶圓無(wú) 損傷 清洗 裝置 | ||
1.一種圖形晶圓無(wú)損傷清洗裝置,用于對(duì)放置在清洗設(shè)備旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上的圖形晶圓進(jìn)行超聲波藥液清洗,其特征在于,所述清洗裝置包括一懸設(shè)于所述圖形晶圓上方的中空殼體,所述殼體的中空內(nèi)部設(shè)有超聲波發(fā)生機(jī)構(gòu),所述超聲波發(fā)生機(jī)構(gòu)下方連接一超聲波能量選擇性去除機(jī)構(gòu),所述超聲波能量選擇性去除機(jī)構(gòu)包括由多個(gè)垂直間隙設(shè)置的石英棒構(gòu)成的等高陣列,所述石英棒陣列自所述殼體下方伸出;從所述超聲波發(fā)生機(jī)構(gòu)傳導(dǎo)出的超聲波能量經(jīng)所述石英棒陣列的選擇性去除后,通過(guò)沒入圖形晶圓上的清洗藥液中的所述石英棒陣列的下端垂直傳導(dǎo)至圖形晶圓表面,以進(jìn)行超聲波移動(dòng)清洗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,所述超聲波發(fā)生機(jī)構(gòu)包括上下連接設(shè)置的壓電材料和金屬耦合層,所述金屬耦合層下端連接所述超聲波能量選擇性去除機(jī)構(gòu),所述壓電材料、金屬耦合層通過(guò)所述殼體所設(shè)電纜接頭與外部電源連接并形成回路,所述壓電材料通過(guò)接收電信號(hào)產(chǎn)生高速形變,形成超聲振蕩,并依次傳導(dǎo)至其下方的所述金屬耦合層、石英棒陣列。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的清洗裝置,其特征在于,所述壓電材料和金屬耦合層通過(guò)導(dǎo)電膠連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求2或3所述的清洗裝置,其特征在于,所述金屬耦合層為單一金屬層或復(fù)合金屬層。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,所述超聲波能量選擇性去除機(jī)構(gòu)包括一石英保護(hù)圈,所述保護(hù)圈環(huán)繞所述石英棒陣列間隙設(shè)置,其下端高于所述石英棒陣列的下端;所述超聲波能量選擇性去除機(jī)構(gòu)上端與所述超聲波發(fā)生機(jī)構(gòu)下端通過(guò)導(dǎo)電膠、或者低熔點(diǎn)合金、或者金或銀連接。
6.根據(jù)權(quán)利要求1、2或5所述的清洗裝置,其特征在于,所述石英棒為實(shí)心圓柱體。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的清洗裝置,其特征在于,所述石英棒的直徑為0.5~5mm,高度不小于2mm。
8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,所述殼體連接擺臂,所述擺臂帶動(dòng)所述清洗裝置對(duì)圖形晶圓進(jìn)行超聲波移動(dòng)清洗。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,所述殼體側(cè)部設(shè)有位置及數(shù)量可調(diào)的清洗藥液管路,用于向下方的圖形晶圓噴淋清洗藥液。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的清洗裝置,其特征在于,所述殼體設(shè)有冷卻氣體進(jìn)出口,用于向其中空內(nèi)部通入冷卻氣體,對(duì)所述超聲波發(fā)生機(jī)構(gòu)冷卻。
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