[發明專利]一種圖形晶圓無損傷清洗裝置

有效

• 申請號: 201510076158.1
• 申請日: 2015-02-12
• 公開（公告）號: CN104646350B
• 公開（公告）日: 2016-10-19
• 發明（設計）人: 滕宇;吳儀
• 申請（專利權）人: 北京七星華創電子股份有限公司
• 主分類號: B08B3/12
• 分類號: B08B3/12;B08B3/08
• 代理公司: 上海天辰知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 31275
• 代理人: 陶金龍;張磊

1.一種圖形晶圓無損傷清洗裝置，用于對放置在清洗設備旋轉平臺上的圖形晶圓進行超聲波藥液清洗，其特征在于，所述清洗裝置包括一懸設于所述圖形晶圓上方的中空殼體，所述殼體的中空內部設有超聲波發生機構，所述超聲波發生機構下方連接一超聲波能量選擇性去除機構，所述超聲波能量選擇性去除機構包括由多個垂直間隙設置的石英棒構成的等高陣列，所述石英棒陣列自所述殼體下方伸出；從所述超聲波發生機構傳導出的超聲波能量經所述石英棒陣列的選擇性去除后，通過沒入圖形晶圓上的清洗藥液中的所述石英棒陣列的下端垂直傳導至圖形晶圓表面，以進行超聲波移動清洗。

2.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述超聲波發生機構包括上下連接設置的壓電材料和金屬耦合層，所述金屬耦合層下端連接所述超聲波能量選擇性去除機構，所述壓電材料、金屬耦合層通過所述殼體所設電纜接頭與外部電源連接并形成回路，所述壓電材料通過接收電信號產生高速形變，形成超聲振蕩，并依次傳導至其下方的所述金屬耦合層、石英棒陣列。

3.根據權利要求2所述的清洗裝置，其特征在于，所述壓電材料和金屬耦合層通過導電膠連接。

4.根據權利要求2或3所述的清洗裝置，其特征在于，所述金屬耦合層為單一金屬層或復合金屬層。

5.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述超聲波能量選擇性去除機構包括一石英保護圈，所述保護圈環繞所述石英棒陣列間隙設置，其下端高于所述石英棒陣列的下端；所述超聲波能量選擇性去除機構上端與所述超聲波發生機構下端通過導電膠、或者低熔點合金、或者金或銀連接。

6.根據權利要求1、2或5所述的清洗裝置，其特征在于，所述石英棒為實心圓柱體。

7.根據權利要求6所述的清洗裝置，其特征在于，所述石英棒的直徑為0.5～5mm，高度不小于2mm。

8.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述殼體連接擺臂，所述擺臂帶動所述清洗裝置對圖形晶圓進行超聲波移動清洗。

9.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述殼體側部設有位置及數量可調的清洗藥液管路，用于向下方的圖形晶圓噴淋清洗藥液。

10.根據權利要求1所述的清洗裝置，其特征在于，所述殼體設有冷卻氣體進出口，用于向其中空內部通入冷卻氣體，對所述超聲波發生機構冷卻。