[發(fā)明專利]一種P型石墨烯/N型鍺納米錐陣列肖特基結(jié)紅外光電探測器及其制備方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510073797.2 | 申請日: | 2015-02-11 |
| 公開(公告)號(hào): | CN104638049B | 公開(公告)日: | 2016-10-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 羅林保;盧瑞;鄭坤;鄒宜峰;王先賀 | 申請(專利權(quán))人: | 合肥工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號(hào): | H01L31/108 | 分類號(hào): | H01L31/108;H01L31/028;H01L31/18 |
| 代理公司: | 安徽省合肥新安專利代理有限責(zé)任公司 34101 | 代理人: | 何梅生 |
| 地址: | 230009 安*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 石墨 納米 陣列 肖特基結(jié) 紅外 光電 探測器 及其 制備 方法 | ||
1.一種P型石墨烯/N型鍺納米錐陣列肖特基結(jié)紅外光電探測器,其特征在于:以N型鍺基底(1)作為所述紅外光電探測器的基區(qū),在所述N型鍺基底(1)的上表面的部分區(qū)域蒸鍍有絕緣層(2),另一部分區(qū)域生長有N型鍺納米錐陣列(3),且所述N型鍺納米錐陣列沿垂直于N型鍺基底上表面的方向生長;在所述絕緣層(2)和所述N型鍺納米錐陣列(3)的上方轉(zhuǎn)移有P型石墨烯薄膜(4),使所述P型石墨烯薄膜一部分與絕緣層(2)接觸,另一部分與N型鍺納米錐陣列(3)形成肖特基接觸;在所述P型石墨烯薄膜(4)上旋涂有ITO納米顆粒(5);在所述N型鍺基底(1)的下表面和所述P型石墨烯薄膜(4)的上表面分別設(shè)置有引出電極(6);所述引出電極(6)為銀電極,所述引出電極(6)分別與所述P型石墨烯薄膜(4)和所述N型鍺基底(1)形成歐姆接觸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的P型石墨烯/N型鍺納米錐陣列肖特基結(jié)紅外光電探測器,其特征在于:所述N型鍺基底(1)采用電阻率為0.1~20Ω﹒cm的N型輕摻雜鍺單晶基片。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的P型石墨烯/N型鍺納米錐陣列肖特基結(jié)紅外光電探測器,其特征在于:所述絕緣層(2)呈“回”型結(jié)構(gòu)蒸鍍在所述N型鍺基底上表面的外周,所述N型鍺納米錐陣列位于所述絕緣層(2)的回形框內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的P型石墨烯/N型鍺納米錐陣列肖特基結(jié)紅外光電探測器,其特征在于:所述絕緣層(2)以SiO2、Al2O3、Si3N4或HfO2為材質(zhì),所述絕緣層(2)的厚度不小于100nm。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的P型石墨烯/N型鍺納米錐陣列肖特基結(jié)紅外光電探測器,其特征在于:所述的ITO納米顆粒(5)的直徑為15nm~25nm。
6.一種權(quán)利要求1所述的P型石墨烯/N型鍺納米錐陣列肖特基結(jié)紅外光電探測器的制備方法,其特征是按如下步驟進(jìn)行:
(1)將N型輕摻雜鍺單晶基片依次用丙酮、酒精超聲10分鐘,再用去離子水超聲5分鐘,然后用氮?dú)鈽尨蹈桑@得N型鍺基底;
(2)利用磁控濺射鍍膜工藝在所述N型鍺基底的上表面蒸鍍絕緣層,使絕緣層呈“回”型結(jié)構(gòu)蒸鍍在所述N型鍺基底上表面的外周,然后通過高溫膠帶粘貼覆蓋所述絕緣層;
(3)通過氣-液界面自組裝法,在所述N型鍺基底的上表面鋪設(shè)具有六角密堆積結(jié)構(gòu)的聚苯乙烯微球薄膜,作為生長N型鍺納米錐陣列的模板;
(4)以氧氣為刻蝕氣體,使用反應(yīng)離子刻蝕機(jī)刻蝕鋪設(shè)有聚苯乙烯微球薄膜的N型鍺基底,氣體流速設(shè)定為20sccm,氣壓設(shè)定為5pa,刻蝕功率設(shè)定為50W,刻蝕時(shí)間210s,使聚苯乙烯微球直徑減小,各聚苯乙烯微球之間產(chǎn)生縫隙;
(5)利用電子束鍍膜工藝在N型鍺基底的上表面鍍20nm銀膜,并將鍍有銀膜的N型鍺基底在氬氣保護(hù)下加熱至300℃,以去除聚苯乙烯微球;
(6)將去除了聚苯乙烯微球的N型鍺基底浸泡在由HF、H2O2和去離子水構(gòu)成的20mL刻蝕液中,在50℃下刻蝕3h,獲得N型鍺納米錐陣列;再將生長有N型鍺納米錐陣列的N型鍺基底浸泡在溫度為50℃、濃度為20wt%的(NH4)2S溶液中20min,進(jìn)行表面鈍化處理;在所述刻蝕液中HF的濃度為4.8M,H2O2的濃度為0.2M;
(7)撕去高溫膠帶,利用濕法轉(zhuǎn)移在N型鍺基底上表面轉(zhuǎn)移P型石墨烯薄膜,使P型石墨烯薄膜一部分搭在絕緣層上,剩余部分搭在N型鍺納米錐陣列上;
(8)在所述P型石墨烯薄膜上旋涂ITO納米顆粒;
(9)在N型鍺基底的下表面和P型石墨烯薄膜的上表面分別點(diǎn)上銀漿作為引出電極,即得P型石墨烯/N型鍺納米錐陣列肖特基結(jié)紅外光電探測器。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對(duì)紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉(zhuǎn)換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進(jìn)行電能控制的半導(dǎo)體器件;專門適用于制造或處理這些半導(dǎo)體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導(dǎo)體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉(zhuǎn)換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個(gè)共用襯底內(nèi)或其上形成的,一個(gè)或多個(gè)電光源,如場致發(fā)光光源在結(jié)構(gòu)上相連的,并與其電光源在電氣上或光學(xué)上相耦合的





