[發明專利]一種連續測量介質表面氡析出率的方法和裝置有效
| 申請號: | 201510071759.3 | 申請日: | 2015-02-11 |
| 公開(公告)號: | CN104614753B | 公開(公告)日: | 2017-09-26 |
| 發明(設計)人: | 李志強;肖德濤;趙桂芝 | 申請(專利權)人: | 南華大學;衡陽師范學院 |
| 主分類號: | G01T1/167 | 分類號: | G01T1/167 |
| 代理公司: | 北京科億知識產權代理事務所(普通合伙)11350 | 代理人: | 肖平安 |
| 地址: | 421001 *** | 國省代碼: | 湖南;43 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 連續 測量 介質 表面 析出 方法 裝置 | ||
1.一種連續測量介質表面氡析出率的方法,其特征在于,包括以下步驟:
步驟1:測量初始氡濃度C0;
開啟取樣泵用0.1-12L/min的流率取樣被測環境中含氡空氣,取樣時間為ΔT,此時測量室內的氡濃度即為初始時刻t=0時集氡罩的氡濃度即初始氡濃度C0;
步驟2:計算介質表面氡析出率;
(a)先按以下方法確定A、B以及等效衰變常量λe:
將具有開孔且帶攪拌功能的集氡罩扣在待測介質表面;以時間間隔為T對集氡罩內氡的濃度進行多次測量;
第n和n-1次測量的集氡罩內氡的濃度之間的關系為:Cn=A+BCn-1;
其中n為自然數;
Cn為t=n*T時刻的集氡罩內氡的濃度;
J為被測介質表面氡析出率;
S為集氡罩的底面積;
V表示集氡罩與測量室的總體積;
在氡累積過程中,經多次測量,采用最小二乘法確定公式Cn=A+BCn-1的A和B;并求得
再以作為氡累積過程和氡動態平衡過程的分界點;測量時間對應的過程為氡累積過程,對應的過程為氡動態平衡過程;
(b1)在氡累積過程,
(b2)在氡動態平衡過程,
2.根據權利要求1所述的連續測量介質表面氡析出率的方法,其特征在于,取樣泵的流率2L/min。
3.根據權利要求2所述的連續測量介質表面氡析出率的方法,其特征在于,ΔT不小于1分鐘。
4.根據權利要求3所述的連續測量介質表面氡析出率的方法,其特征在于,T不小于10分鐘。
5.根據權利要求4所述的連續測量介質表面氡析出率的方法,其特征在于,T為15分鐘。
6.一種連續測量介質表面氡析出率的裝置,其特征在于,包括測氡儀(5)和扣裝在待測介質表面(6)上的集氡罩(1);
集氡罩上設有泄露孔(1-4),集氡罩內具有攪拌器(1-1);
測氡儀中具有測量室(5-1);
集氡罩的集氡罩抽氣連接孔(1-3)與測氡儀的測量儀抽氣連接孔(5-2)通過進氣連接管(3)連接;
集氡罩的集氡罩回氣連接孔(1-2)與測氡儀的測量儀回氣連接孔(5-3)通過回氣連接管(2)連接;
采用權利要求1-5任一項所述的方法測量待測介質表面氡析出率。
7.根據權利要求6所述的連續測量介質表面氡析出率的裝置,其特征在于,進氣連接管上設有氡子體過濾器(4)。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于南華大學;衡陽師范學院,未經南華大學;衡陽師范學院許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510071759.3/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





