[發明專利]連續式物理真空鍍膜設備有效
| 申請號: | 201510071505.1 | 申請日: | 2015-02-11 |
| 公開(公告)號: | CN104694903B | 公開(公告)日: | 2017-11-24 |
| 發明(設計)人: | 陳慶豐;陳敬堯 | 申請(專利權)人: | 陳慶豐;陳敬堯 |
| 主分類號: | C23C14/56 | 分類號: | C23C14/56 |
| 代理公司: | 廣州市紅荔專利代理有限公司44214 | 代理人: | 王賢義 |
| 地址: | 中國臺灣中正*** | 國省代碼: | 臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 連續 物理 真空鍍膜 設備 | ||
技術領域
本發明涉及一種鍍膜設備,特別是指一種能于相同的制程時間達到增加產出功效的連續式物理真空鍍膜設備。
背景技術
大致而言,現有的鍍膜制程是由作業人員將清潔完成的工件放入已與外界壓力平衡的鍍膜設備的載臺上,接著密閉鍍膜設備開始抽真空,當鍍膜設備的真空度到達一定的負壓時,即由鍍膜設備中的加熱座加熱基片并以濺射或電子束蒸發的方式進行鍍膜,待整個鍍膜過程完成后,再行解除真空狀態將完成鍍膜之工件取出,更換下一工件后重覆進行上述過程。如此的鍍膜制程一來會出現工件在清潔后進入鍍膜設備的過程中,有可能再遭污染的疑慮,二來須耗費大量的時間在等待抽引真空度到達預定的負壓,所以無法進行批量生產。
另外,隨著綠色能源的要求日益提高,藉由照光生電的太陽能電池的需求也日益增加,但是,一來太陽能電池的體積越來越巨大,如前述般依靠作業人員進行鍍膜制程的方式顯得困難,二來,若無法批量進行蒸鍍以生產太陽能電池,也無法形成市場規模,滿足發展綠色能源的需求。
因此,針對產制太陽能電池而言,需要建立可以減少花費在抽引真空達成預定負壓而進行蒸鍍,以連續批量生產太陽能電池的連續式物理真空鍍膜設備。
發明內容
本發明所要解決的技術問題是克服現有技術的不足,提供一種工件在清潔后開始蒸鍍的過程中,不會有再遭污染的疑慮,且可以連續批量生產的連續式物理真空鍍膜設備。
本發明所采用的技術方案是:本發明連續產制太陽能電池,其包含:
一真空鍍膜裝置,包括具有復數獨立的鍍膜腔的鍍膜室、復數分別設置于所述鍍膜腔的多源蒸鍍單元及抽引所述鍍膜室成適于蒸鍍之負壓狀態的第一抽真空單元,所述多源蒸鍍單元具有形成有供蒸鍍用的圖案的載體、移動所述載體對應定位于其中一預定的太陽能電池的移動件及可移動地對應定位有所述載體的太陽能電池并對所述太陽能電池進行蒸鍍的蒸鍍件;
一緩沖真空裝置,包括具有第一入料口和連通所述鍍膜室的第一出料口之清潔緩沖腔的前緩沖真空室、具有連通所述鍍膜室的第二入料口和第二出料口之緩沖真空腔的后緩沖真空室、設置于所述前緩沖真空室并對位于所述清潔緩沖腔中的其中至少一個太陽能電池可移動地進行離子清潔的清潔單元、分別抽引所述清潔緩沖腔和所述緩沖真空腔成低于大氣壓力之預定負壓狀態的第二抽真空單元;
一準備裝置,包括具有第三入料口和連通所述前緩沖真空室的第一入料口的第三出料口的前置準備腔的入料準備室、具有連通所述后緩沖真空室的第二出料口的第四入料口和第四出料口之完成腔的出料準備室、分別抽引所述前置準備腔和完成腔成低于大氣壓力之預定負壓狀態的第三抽真空單元;
一傳送裝置,輸送復數太陽能電池依序通過所述第三入料口、所述前置準備腔、所述第三出料口、所述第一入料口、所述清潔緩沖腔、所述第一出料口、所述鍍膜腔、所述第二入料口、所述緩沖真空腔、所述第二出料口、所述第四入料口、所述完成腔及所述第四出料口;及
一閘門單元,包括復數閘門及控制所述閘門的閘門控制器,所述閘門控制器控制所述閘門分別可開啟地封閉所述第三入料口、所述第三出料口和第一入料口、所述第一出料口、所述第二入料口、所述第二入出料口和所述第四入料口及所述第四出料口,且當其中一太陽能電池到達時即令所述一對應的所述閘門開啟并在所述太陽能電池通過后即令所述閘門封閉,同時相鄰的兩閘門不會同時開啟。
進一步的,所述第一抽真空單元作動令所述鍍膜腔的負壓不大于10-5Pa,所述第二抽真空單元作動令所述清潔緩沖腔和所述緩沖真空腔的負壓不大于10-3Pa,且所述第三抽真空單元作動令所述前置準備腔和所述完成腔的負壓不大于10-1Pa。
進一步的,所述緩沖真空裝置的清潔單元為線性離子源或電漿。
進一步的,所述多源蒸鍍單元的蒸鍍件具有至少二個蒸鍍膜料及至少二個分別加熱所述蒸鍍膜料的加熱座。
進一步的,所述蒸鍍膜料為同一元素或不同元素。
本發明的有益效果是:本發明在于提供一種完整的、針對太陽能電池批量生產的連續式物理真空鍍膜設備,藉由所述緩沖真空裝置與所述準備裝置達到能分段抽真空、解除真空狀態以節省制程時間,并藉著所述包括獨立的蒸鍍腔的蒸鍍室一次進行多層大面積的鍍膜作業,且于鍍膜制程前能先以可移動地線性離子源將鍍膜基片做再次清潔,使后續的鍍膜過程不受污染且可增加膜層的附著力等多種功效。
附圖說明
圖1是本發明的側面示意圖;
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