[發明專利]電磁繼電器在審
| 申請號: | 201510069589.5 | 申請日: | 2015-02-10 |
| 公開(公告)號: | CN104851751A | 公開(公告)日: | 2015-08-19 |
| 發明(設計)人: | 鈴木雄太;太田義典;小野勉 | 申請(專利權)人: | NEC東金株式會社 |
| 主分類號: | H01H50/56 | 分類號: | H01H50/56 |
| 代理公司: | 北京清亦華知識產權代理事務所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 聶寧樂 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 電磁 繼電器 | ||
技術領域
本發明涉及一種電磁繼電器。
背景技術
公開號為2011-81961的日本未審查專利申請公開了一種現有技術(之后稱為“專利文獻1”)。專利文獻1中公開的電磁繼電器包括蓋、關閉蓋底部的基塊、安裝在基塊內的電磁鐵、電磁鐵驅動的活動片簧、設在活動片簧頂部的活動觸點、和彼此相對設置的常開固定觸點和常閉固定觸點,活動觸點設在常開固定觸點與常閉固定觸點之間。活動片簧中形成有狹縫且活動片簧被狹縫分為左片和右片對。另外,左分離片和右分離片中的每個中設有活動觸點。相應地,常開固定觸點和常閉固定觸點也分別被分到兩個部分。因此,左側和右側中的每個都設有一個活動觸點、一個常開固定觸點和一個常閉固定觸點。
發明內容
然而,本發明的發明人已經發現了以下問題。上述現有技術中的電磁繼電器中,常開固定觸點或常閉固定觸點并排布置,其中間形成有間隙。因此,存在當制備或使用電磁鐵時,異物進入左常開固定觸點與右常開固定觸點對之間或左常閉固定觸點與右常閉固定觸點對之間的間隙的高可能性。另外,當異物進入間隙時,易出現不良連接。另外,當常開固定觸點和/或常閉固定觸點的左觸點的高度和右觸點的高度彼此不同時,易出現不良連接。特別地,緊湊型電磁繼電器的觸點非常小。因此,小的異物(或少量異物)可對觸點之間的連接的可靠性具有重大影響。
本發明的一個目的是提供一種觸點之間的連接的可靠性提高的電磁繼電器。
本發明的一個示例性方面為一種電磁繼電器,該電磁繼電器包括:
多個活動觸點,所述多個活動觸點設在由電磁鐵驅動的活動片簧內;和
常開固定觸點和常閉固定觸點,所述常開固定觸點和所述常閉固定觸點設置成彼此相對,所述活動觸點設在所述常開固定觸點與所述常閉固定觸點之間,其中
所述常開固定觸點的整個圓周和所述常閉固定觸點的整個圓周在與所述活動觸點的活動方向大體垂直的平面上延伸超出所述活動觸點,
所述活動片簧內設有由延伸自所述活動片簧的頂端的狹縫分開的多個分離片,且各個所述活動觸點分別設在所述多個分離片中的相應的一個分離片內;和
所述平面上的所述常開固定觸點的數量和所述常閉固定觸點的數量都為一,而所述活動觸點的數量為二或更多。
在該電磁繼電器中,各個活動觸點分別設在活動片簧的多個分離片中的相應的一個分離片內,且常開固定觸點的整個圓周和常閉固定觸點的整個圓周在與活動觸點的活動方向大體垂直的平面上延伸超出活動觸點。另外,與活動觸點的活動方向大體垂直的平面上的常開固定觸點的數量和常閉固定觸點的數量都為一,而活動觸點的數量為二或更多。通過這個結構,防止了制造或使用過程中異物進入常開固定觸點側或常閉固定觸點側的情況。另外,即使異物落在多個活動觸點中的一個活動觸點與常開固定觸點或常閉固定觸點之間,其他活動觸點與常開固定觸點或常閉固定觸點接觸。因此,可保持電傳導且可提高觸點之間連接的可靠性。另外,常開固定觸點的數量與常閉固定觸點的數量都為一。因此,可容易進行常開固定觸點與常閉固定觸點之間的對齊過程且可減少尺寸誤差的影響。另外,常開固定觸點的接觸面積和常閉固定觸點的接觸面積大。因此,存在與活動觸點之間的不良接觸更少可能發生的另一個有利作用。
另外,所述活動片簧的所述分離片的一部分內設有彎曲部,所述彎曲部通過將所述活動片簧在所述活動觸點附近彎曲為曲柄形而形成。所述活動片簧內固定有電樞,所述電樞與所述電磁鐵相對,且所述電樞的一端設在所述彎曲部附近。
通過該結構,電樞可位于常開固定觸點或常閉固定觸點附近。因此,電樞與常開固定觸點或常閉固定觸點之間的間隙可變窄,因此使得可能防止異物進入該間隙的情況。
另外,所述活動片簧內形成有切口部,所述切口部在所述狹縫的一端附近在與所述狹縫的延伸方向大體垂直的方向上延伸。
通過采用切口部,可容易地降低每個分離片的彈簧常數,因此使每個分離片更容易彎曲。結果是,可促進觸點之間的連接的響應性。
另外,所述活動觸點通過焊接與所述活動片簧連接。
通過將活動觸點焊接至活動片簧,與如專利文獻1中將活動觸點與活動片簧通過鉚接的情況相比,可減少活動觸點的厚度。結果是,由于常開固定觸點與常閉固定觸點之間的間隙可變窄,可進一步防止異物進入間隙的情況。
另外,所述活動觸點包括位于所述常開固定觸點側的常開側活動觸點和位于所述常閉固定觸點側的常閉側活動觸點。所述常開側活動觸點的位置和所述常閉側活動觸點的位置在所述狹縫的所述延伸方向上相互錯開。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于NEC東金株式會社,未經NEC東金株式會社許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510069589.5/2.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。





