[發明專利]磁共振成像系統和方法在審
| 申請號: | 201510069190.7 | 申請日: | 2005-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN104656046A | 公開(公告)日: | 2015-05-27 |
| 發明(設計)人: | J.S.范登布林克;P.R.哈維 | 申請(專利權)人: | 皇家飛利浦電子股份有限公司 |
| 主分類號: | G01R33/56 | 分類號: | G01R33/56 |
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 汪揚;景軍平 |
| 地址: | 荷蘭艾*** | 國省代碼: | 荷蘭;NL |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 磁共振 成像 系統 方法 | ||
1.?一種磁共振MR成像方法,該方法包括以下步驟:
-進行(11,21)感興趣結構的第一MR掃描以檢測對比劑團到達感興趣結構內,該第一MR掃描采用對應于第一MR敏感核子的第一共振頻率,
-至少重復該第一進行步驟(11,12)直到已檢測到(12,22)對比劑團到達感興趣結構內,
-基于第一MR掃描(11,21)的結果自動地進行(13,25)感興趣結構的第二MR掃描以采集MR圖像,該第二MR掃描采用對應于第二MR敏感核子的第二共振頻率,該第二MR敏感核子不同于第一MR敏感核子,
其中對比劑團包括所述第一MR敏感核子和所述第二MR敏感核子。
2.?根據權利要求1所述的方法,其中所述對比劑團包括含有所述第一MR敏感核子的第一對比劑團和含有所述第二MR敏感核子的第二對比劑團。
3.?根據權利要求1所述的方法,其中所述第二MR敏感核子為超極化MR敏感核子。
4.?根據權利要求1所述的方法,其中所述第一MR敏感核子為質子且影響來自這些質子的MR信號的弛豫增強物質用在所述第一MR掃描中。
5.?根據權利要求1所述的方法,其中所述第一MR敏感核子為非質子MR敏感核子。
6.?根據權利要求1所述的方法,其中第一MR敏感核子為超極化MR敏感核子。
7.?根據權利要求2所述的方法,其中在根據第一MR掃描的對比劑團到達時間確定(23)的等待時間之后實行第二MR掃描(13,25)。
8.?一種磁共振MR成像系統(1),包括采集模塊(2),用于采用對應于第一MR敏感核子的第一共振頻率,從感興趣結構采集第一磁共振信號以檢測對比劑團到達感興趣結構內,并用于至少重復采集第一磁共振信號直到已檢測到對比劑團到達感興趣結構內,該采集模塊(2)適于采用對應于第二MR敏感核子的第二共振頻率,從感興趣結構采集第二磁共振信號以采集MR圖像,該第二MR敏感核子不同于第一MR敏感核子,
其中對比劑團包括所述第一MR敏感核子和所述第二MR敏感核子,其中采集模塊(2)包括分析模塊,用于分析第一磁共振信號,并且基于分析結果自動啟動采用第二共振頻率進行的MR圖像采集。
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