[發明專利]發光裝置

有效

• 申請號: 201510068314.X
• 申請日: 2011-03-21
• 公開（公告）號: CN104676324B
• 公開（公告）日: 2017-12-05
• 發明（設計）人: 周錫煙
• 申請（專利權）人: 晶元光電股份有限公司
• 主分類號: F21S2/00
• 分類號: F21S2/00;F21V23/00;H02M7/06;F21Y115/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種發光裝置，其特征在于，包括：

基板，包含有一第一凹槽、一第二凹槽、一第三凹槽與一底面；

第一導電走線，位于該基板內，并具有一第一電路分布；

第二導電走線，位于該底面與該第一導電走線之間，并具有一第二電路分布，并且該第二電路分布與該第一電路分布不同；

貫穿孔，貫穿該第一導電走線與該第二導電走線；

第一多個整流二極管，設置于該第一凹槽中；

第二多個整流二極管，設置于該第三凹槽中；以及

發光二極管模塊，設置于該第二凹槽中，該發光二極管模塊包括多個發光二極管。

2.如權利要求1所述的發光裝置，其特征在于，該多個發光二極管可選擇性地以串聯或并聯方式連接。

3.如權利要求1所述的發光裝置，其中該第一凹槽或該第三凹槽包含多個子凹槽以分別設置該第一多個整流二極管或該第二多個整流二極管。

4.如權利要求3所述的發光裝置，還包含一隔離部位于該第一多個整流二極管其中之一與該貫穿孔之間或該第二多個整流二極管其中之一與該貫穿孔之間。

5.一種發光裝置，包括：

基板，包含一底面、一表面、以及設置于該表面上的一第一凹槽、一第二凹槽與一第三凹槽；

突出接口或一對隔離部，設置于該第一凹槽內；

第一整流二極管與第二整流二極管，設置于該第一凹槽中，且被該突出接口或該對隔離部分隔；

第三整流二極管與第四整流二極管，設置于該第三凹槽內；

以及

發光二極管模塊，設置于該第二凹槽內，該發光二極管模塊包括多個發光二極管。

6.如權利要求5所述的發光裝置，其中該基板具有一高度大于該突出接口或該對隔離部的高度。

7.如權利要求5所述的發光裝置，還包含一導電走線，位于該底面與該表面之間。

8.如權利要求7所述的發光裝置，還包含一貫穿孔穿過該導電走線。

9.如權利要求5所述的發光裝置，還包含

貫穿孔，位于該表面上；以及

導線，位于該表面上，并具有一端與該貫穿孔相連。

10.如權利要求5所述的發光裝置，該對隔離部包含硅。