[發明專利]一種快速換靶雙面往復連續鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機

有效

• 申請號: 201510068156.8
• 申請日: 2015-02-09
• 公開（公告）號: CN104674180B
• 公開（公告）日: 2017-06-09
• 發明（設計）人: 朱錫芳;楊輝;徐安成;陳功;許清泉
• 申請（專利權）人: 常州工學院
• 主分類號: C23C14/56
• 分類號: C23C14/56;C23C14/35
• 代理公司: 南京知識律師事務所32207
• 代理人: 高桂珍

1.一種快速換靶雙面往復連續鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機，包括真空室（1）、設于真空室（1）兩側的開卷室（2）和收卷室（9）、設于開卷室（2）內的開卷機構（201）、設于收卷室（9）內的收卷機構（901）和設于真空室（1）內的兩組冷輥（8），其特征在于：還包括回轉換靶裝置（10）和糾偏裝置（5），所述的開卷機構（201）和收卷機構（901）之間的基帶（4）經過換向輥（7）換向后呈“S”形纏繞于兩組冷輥（8）上，所述的開卷機構（201）和收卷機構（901）處各設置一組糾偏裝置（5），且開卷機構（201）和收卷機構（901）帶動基帶（4）實現往復運動；所述的兩組冷輥（8）纏繞有基帶（4）的圓周表面上各對應設置有一組兩面開口的陰極小室（11），兩組陰極小室（11）各對應設置一組回轉換靶裝置（10），且每組回轉換靶裝置（10）、陰極小室（11）和冷輥（8）位于同一軸線上；所述的回轉換靶裝置（10）包括機座（1001）、回轉盤（1004）、驅動回轉盤（1004）轉動的回轉機構、驅動回轉盤（1004）沿軸向伸縮的軸向伸縮機構（1002）、安裝于回轉盤（1004）上的兩個以上的伸縮軸套（1005）、安裝于伸縮軸套（1005）上的用于安裝靶芯（12）的極靶座板（1006）和安裝于機座（1001）上且與陰極小室（11）的開口方向相對的徑向伸縮機構（1007），所述的回轉盤（1004）為設有內腔的桶狀結構，所述的伸縮軸套（1005）安裝于回轉盤（1004）的側壁上，當軸向伸縮機構（1002）收縮后，所述的徑向伸縮機構（1007）剛好與一個伸縮軸套（1005）相對應，用于將極靶座板（1006）向外頂出并嵌入陰極小室（11）內。

2.根據權利要求1所述的一種快速換靶雙面往復連續鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于：所述的伸縮軸套（1005）包括內軸（1008）、中間軸套（1009）和外軸套（1010），所述的內軸（1008）設于中間軸套（1009）內，且內軸（1008）與中間軸套（1009）之間設有第一壓縮彈簧（1011），所述的中間軸套（1009）設于外軸套（1010）內，且中間軸套（1009）與外軸套（1010）之間設有第二壓縮彈簧（1012），所述的外軸套（1010）固定安裝于回轉盤（1004）上。

3.根據權利要求2所述的一種快速換靶雙面往復連續鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于：所述的軸向伸縮機構（1002）上還設置有三節筒式導軌（1003）。

4.根據權利要求3所述的一種快速換靶雙面往復連續鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于：所述的軸向伸縮機構（1002）和徑向伸縮機構（1007）均為電動推桿，所述的回轉機構為步進電機。

5.根據權利要求1至4任意一項所述的一種快速換靶雙面往復連續鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于：所述的糾偏裝置（5）為超聲波糾偏系統或光電糾偏系統。

6.根據權利要求5所述的一種快速換靶雙面往復連續鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于：所述的開卷機構（201）與相鄰的冷輥（8）之間還設置有位于冷輥（8）附近的前處理裝置（6），所述的前處理裝置（6）包括離子源預處理機構，用于清洗基帶（4）表面的污物。

7.根據權利要求6所述的一種快速換靶雙面往復連續鍍膜磁控濺射卷繞鍍膜機，其特征在于：還包括冷井盤管深冷機構，所述的冷井盤管深冷機構用于冷凝對基帶（4）前處理過程中釋放的大量水汽。