[發明專利]微波凝視關聯成像系統中時空隨機輻射場的遠場測量方法

有效

• 申請號: 201510067466.8
• 申請日: 2015-02-09
• 公開（公告）號: CN104569975B
• 公開（公告）日: 2017-04-19
• 發明（設計）人: 王東進;田超;郭圓月;陳衛東;劉波;孟青泉
• 申請（專利權）人: 中國科學技術大學
• 主分類號: G01S13/89
• 分類號: G01S13/89
• 代理公司: 北京凱特來知識產權代理有限公司11260
• 代理人: 鄭立明,鄭哲

1.一種微波凝視關聯成像系統中時空隨機輻射場的遠場測量方法，其特征在于，該方法包括：

在成像區域中選取M個測量點以及一參考點，在相同的輻照條件下對第一個測量點處的輻射場與參考點處的輻射場進行同步連續的無擾測量及記錄；

在不改變輻射系統構型與激勵信號的情況下，更換下一個測量點，并對該測量點處的輻射場與參考點處的輻射場進行同步連續的無擾測量及記錄，直到遍歷所有測量點；第i次測量得到一組離散數據包括x_i(n),x_oi(n)，n＝1,...,N，其中x_i(n)表示測量得到r_i處的輻射場變化，x_oi(n)表示對應的參考點處輻射場的變化，N表示一次測量的采樣點數，i＝1,...,M；

以參考點處記錄的輻射場變化為時間維匹配基準，將所有測量點處的記錄的輻射場在時間維對齊；其包括：將x_o1(n)記為x_o(n)，計算關于k變量的函數取得最大值處的自變量值k_i，此時x_oi(n-k_i)與x_o(n)變化一致，參考信號時間維對齊，而x_i(n)是與x_oi(n)同步測量得到，則x_i(n-k_i),i＝1,...,M為各測量點處在時間維對齊后輻射場隨時間的變化；

提取不同時間片段測量點處的輻射場分布，獲得輻射場隨時間與空間兩維變化的信息。

2.根據權利要求1所述的方法，其特征在于，在相同的輻照條件下對第一個測量點處的輻射場與參考點處的輻射場進行同步連續的無擾測量及記錄；在不改變輻射系統構型與激勵信號的情況下，更換下一個測量點，并對該測量點處的輻射場與參考點處的輻射場進行同步連續的無擾測量及記錄，直到遍歷所有測量點的步驟包括：

搭建微波隨機輻射系統，在隨機輻射系統的輻照場景中放置一弱散射平板，板上鋪吸波材料并劃分網格；選取的M個測量點的位置為r₁,...r_i,...,r_M；

選取一參考點，位置為r₀，同時在第一個測量點r₁和參考點r₀處放置一標準測量小天線接收直達的輻射場信號，并且輸入接收機同步測量兩點輻射場的變化并且記錄，得到一組兩點的輻射場變化測量數據；

在不改變輻射系統構型與激勵信號的情況下，更換下一個測量點，并重復上述測量，直到遍歷所有M個測量點。