[發明專利]一種基于體布拉格光柵選模的互易式增益光柵自適應激光器

在審

• 申請號: 201510065408.1
• 申請日: 2015-02-08
• 公開（公告）號: CN104638507A
• 公開（公告）日: 2015-05-20
• 發明（設計）人: 李強;程秋桐;于灝洋;惠勇凌;姜夢華;雷訇
• 申請（專利權）人: 北京工業大學
• 主分類號: H01S3/11
• 分類號: H01S3/11;H01S3/10
• 代理公司: 北京思海天達知識產權代理有限公司 11203
• 代理人: 劉萍

1.一種基于體布拉格光柵選模的互易式增益光柵自適應激光器，其特征在于：

該裝置由泵浦源、泵浦耦合系統、激光增益介質、左側柱面鏡、右側柱面鏡、全反鏡-Ⅰ、全反鏡組-Ⅱ和體布拉格光柵組成；

泵浦源、泵浦耦合系統、激光增益介質、左側柱面鏡、右側柱面鏡、全反鏡-Ⅰ、全反鏡組-Ⅱ和體布拉格光柵的中心位于同一高度，泵浦耦合系統位于激光增益介質和泵浦源中間，其焦距滿足使得由泵浦源1發出的泵浦光能夠通過泵浦耦合系統射入激光增益介質，并聚焦在激光增益介質下表面某處；

當泵浦光通過泵浦耦合系統進入激光增益介質，并在激光增益介質下表面聚焦，自發輻射產生的光在激光增益介質中傳輸；自發輻射產生的光從激光增益介質的右側通過右側柱面鏡，光束經全反鏡組-Ⅱ中的下側全反鏡反射到上側全反鏡后，再次通過右側柱面鏡后被聚焦到激光增益介質下表面，與上述泵浦光在激光增益介質的聚焦處相交并發生全反射；光束從激光增益介質的左側經過左側柱面鏡準直后經體布拉格光柵反射；入射到體布拉格光柵的光線到全反鏡-Ⅰ并發生全反射，全反鏡-Ⅰ反射的光通過體布拉格光柵反射后經左側柱面鏡被壓縮，進入激光增益介質，交于上述泵浦光在激光增益介質的聚焦處并反射；反射光經過右側柱面鏡準直后經全反鏡組-Ⅱ中的上側全反鏡反射到下側全反鏡，再經過右側柱面鏡壓縮后交于上述泵浦光在激光增益介質的聚焦處；最后經過左側柱面鏡出射。

2.根據權利要求1所述的激光器，其特征在于：所述的泵浦源為單個半導體巴條或多個半導體堆棧。

3.根據權利要求1所述的激光器，所述的泵浦耦合系統為柱透鏡。

4.根據權利要求1所述的激光器，所述的激光增益介質是Nd:YVO₄或Nd:YAG板條。