[發(fā)明專利]二極管在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201510064902.6 | 申請日: | 2015-02-06 |
| 公開(公告)號: | CN104835857A | 公開(公告)日: | 2015-08-12 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 木山誠;松浦尚;島津充 | 申請(專利權(quán))人: | 住友電氣工業(yè)株式會社 |
| 主分類號: | H01L29/872 | 分類號: | H01L29/872;H01L29/16;H01L29/161;H01L29/20;H01L29/06 |
| 代理公司: | 中原信達知識產(chǎn)權(quán)代理有限責任公司 11219 | 代理人: | 李蘭;孫志湧 |
| 地址: | 日本大阪*** | 國省代碼: | 日本;JP |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 二極管 | ||
1.一種二極管,包括:
有源層;和
第一和第二電極,所述第一和第二電極用于向所述有源層施加正向電壓和反向電壓,
在經(jīng)由所述第一和第二電極向所述有源層施加所述正向電壓時的所述二極管的正向電流-電壓特性中,電壓關(guān)于電流的變化被定義為正向?qū)娮鑂,其中,所述正向?qū)娮鑂的單位為mΩ,
與經(jīng)由所述第一和第二電極產(chǎn)生所述二極管的擊穿時的所述反向電壓的2/3倍一樣高的所述反向電壓被定義為反向阻斷電壓V阻斷,其中,所述阻斷電壓的單位為V,并且
利用雙脈沖方法,通過在下述條件下對二極管電流I積分得到的電荷被定義為所述二極管的響應(yīng)電荷Q,其中,所述響應(yīng)電荷Q的單位為nC,所述條件是:
(a)反向電壓Vr:2/3×V阻斷,
(b)關(guān)斷速度di/dt:-200A/μs,和
(c)二極管電流I的積分范圍:從二極管電流I穿過0的時間點直到所述二極管電流I恢復至反向電流峰值的10%的時間點的范圍,
在25℃的測量溫度下,所述正向?qū)娮鑂和所述響應(yīng)電荷Q的乘積R·Q滿足R·Q≤0.25×V阻斷2的關(guān)系。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二極管,其中
所述乘積R·Q滿足R·Q≤0.1×V阻斷2的關(guān)系。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的二極管,其中
形成所述二極管的半導體材料是硅。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二極管,其中
所述乘積R·Q滿足R·Q≤4.7×10-3×V阻斷2的關(guān)系。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的二極管,其中
形成所述二極管的半導體材料是碳化硅。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的二極管,其中
所述乘積R·Q滿足R·Q≤1.3×10-3×V阻斷2的關(guān)系。
7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的二極管,其中
形成所述二極管的半導體材料是氮化鎵。
8.根據(jù)權(quán)利要求4至7中的任一項所述的二極管,其中
所述二極管包括形成在所述有源層中的邊緣終止結(jié)構(gòu),并且所述邊緣終止結(jié)構(gòu)具有不小于5μm且不大于200μm的寬度。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于住友電氣工業(yè)株式會社,未經(jīng)住友電氣工業(yè)株式會社許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201510064902.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L29-00 專門適用于整流、放大、振蕩或切換,并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的半導體器件;具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘,例如PN結(jié)耗盡層或載流子集結(jié)層的電容器或電阻器;半導體本體或其電極的零部件
H01L29-02 .按其半導體本體的特征區(qū)分的
H01L29-40 .按其電極特征區(qū)分的
H01L29-66 .按半導體器件的類型區(qū)分的
H01L29-68 ..只能通過對一個不通有待整流、放大或切換的電流的電極供給電流或施加電位方可進行控制的
H01L29-82 ..通過施加于器件的磁場變化可控的





