[發明專利]一種制備MEMS密閉腔的方法在審
| 申請號： | 201510064003.6 | 申請日： | 2015-02-06 |
| 公開（公告）號： | CN104627955A | 公開（公告）日： | 2015-05-20 |
| 發明（設計）人： | 張華 | 申請（專利權）人： | 蘇州工業園區納米產業技術研究院有限公司 |
| 主分類號： | B81C1/00 | 分類號： | B81C1/00 |
| 代理公司： | 蘇州市中南偉業知識產權代理事務所(普通合伙) 32257 | 代理人： | 李陽 |
| 地址： | 215123 江蘇省蘇州市工業*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 制備 mems 密閉 方法 | ||
1.一種制備MEMS密閉腔的方法，其特征在于：包括以下步驟：
(1)首先在襯底上沉積犧牲材料；
(2)然后在犧牲材料上涂覆有機聚合物，形成密閉外殼；
(3)最后通過化學或物理的方法使犧牲材料以氣體形式穿過有機聚合物，得到MEMS密閉腔。
2.根據權利要求1所述的一種制備MEMS密閉腔的方法，其特征在于：所述犧牲材料為二氧化硅，使用HF氣體與惰性氣體的混合氣體腐蝕二氧化硅后，產物以氣體形式穿過有機聚合物。
3.根據權利要求2所述的一種制備MEMS密閉腔的方法，其特征在于：在所述步驟(1)和(2)之間還包括步驟(1a)：在犧牲材料上先沉積結構材料，然后在結構材料上再沉積犧牲材料。
4.根據權利要求3所述的一種制備MEMS密閉腔的方法，其特征在于：所述結構材料為多晶硅、有機聚合物、金屬和合金中的一種或多種。
5.根據權利要求4所述的一種制備MEMS密閉腔的方法，其特征在于：所述惰性氣體為氮氣。
6.根據權利要求5所述的一種制備MEMS密閉腔的方法，其特征在于：所述襯底為硅片。
7.根據權利要求1所述的一種制備MEMS密閉腔的方法，其特征在于：所述犧牲材料為單質碘，升華后以氣體形式穿過有機聚合物。
8.根據權利要求1所述的一種制備MEMS密閉腔的方法，其特征在于：所述犧牲材料為氯化銨晶體，通過分解作用以氣體形式穿過有機聚合物。
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